[发明专利]用于诊断天线阵口径幅相场的畸变位置的方法有效

专利信息
申请号: 201710966768.8 申请日: 2017-10-17
公开(公告)号: CN107783086B 公开(公告)日: 2021-01-05
发明(设计)人: 陈玉林;胡元奎;于丁;张大海;范忠亮 申请(专利权)人: 中国电子科技集团公司第三十八研究所
主分类号: G01S7/40 分类号: G01S7/40;G01S7/02
代理公司: 合肥金安专利事务所(普通合伙企业) 34114 代理人: 彭超
地址: 230088 安徽*** 国省代码: 安徽;34
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摘要: 发明提供一种用于诊断天线阵口径幅相场的畸变位置的方法,首先是对近场数据进行近场‑平面波谱变换得到k空间的平面波谱分量,然后在k空间平面波谱实施探头和单元的方向图校正,最后进行平面波谱‑口径场逆变换获得口径场分布。最后,为了获得更为准确数据,需要进行口径场的重构,获取口面上实际物理位置的幅相分布,从而判断出口径场或激励电流发生畸变的位置以及所对应的辐射单元,达到对天线进行“诊断”的目的。本发明可以准确定位天线失效单元位置,及时排查故障,节约大量测试时间,并且通过反演补偿的方式提高方向图质量。另外,本发明利用快速傅立叶变换(FFT)作高效计算,因而具有较强的工程实用性。
搜索关键词: 用于 诊断 天线阵 口径 幅相场 畸变 位置 方法
【主权项】:
用于诊断天线阵口径幅相场的畸变位置的方法,所述天线阵包含4个以上的辐射单元,所述辐射单元分别产生并发射激励电流,由所述激励电流共同构成口径幅相场;其特征在于,该方法包括如下步骤:初始步骤:获取所述天线阵的平面近场测试数据;校正步骤:对所述平面近场测试数据进行探头方向图校正的近场‑平面波谱变换,得到进行探头校正后的k空间的平面波谱分量,获得校正后的k空间的平面波谱方向图;反演步骤:对所述校正后的k空间的平面波谱方向图进行平面波谱‑口径场逆变换,获得反演后的口径幅相场分布图;比对步骤:测量所述天线阵的每个辐射单元的实际物理位置,将每个辐射单元的实际物理位置与所述反演后的口径幅相场分布图中的位置进行比对,从而得出天线阵各辐射单元的幅相分布,进而判断出发生畸变的位置以及所对应的辐射单元。
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