[发明专利]一种光敏聚酰亚胺材料柔性变角度阵列衍射光学器件的制作方法

摘要

一种光敏聚酰亚胺材料柔性变角度阵列衍射光学器件的制作方法，包括以下步骤：步骤1：制备好包含N组一维二元衍射光学结构的柔性变角度阵列衍射光学器件掩模版备用；步骤2：选择硅片作为基底材料并进行清洗；步骤3：硅片上涂敷一层光刻胶，并进行加热固化作为牺牲层；步骤4：光敏聚酰亚胺光刻胶胶液配制；步骤5：在牺牲层上涂敷光敏聚酰亚胺光刻胶，对涂敷好的光敏聚酰亚胺光刻胶进行前烘，使用掩模版进行曝光，再进行显影和后烘固化，形成光敏聚酰亚胺光刻胶衍射图形；步骤6：去除牺牲层以及位于其下的硅片，制成柔性变角度阵列衍射光学器件。本发明全波段散斑抑制效果好、运动方式简单、易于实现、且系统通用性、鲁棒性好、成本低廉。

主权项

一种光敏聚酰亚胺材料柔性变角度阵列衍射光学器件的制作方法，其特征在于：所述制作方法包括以下步骤：步骤1：制备好包含N组一维二元衍射光学结构的柔性变角度阵列衍射光学器件掩模版备用；步骤2：选择硅片作为基底材料，并进行清洗；步骤3：在经过步骤2的清洁硅片上涂敷一层光刻胶，并进行加热固化作为牺牲层，所述作为牺牲层的光刻胶及其配套去胶剂，必须不与光敏聚酰亚胺光刻胶产生互溶或化学反应；步骤4：光敏聚酰亚胺光刻胶胶液配制，取光敏聚酰亚胺光刻胶，加入混合增感剂和二次精制处理干燥的感光树脂，进行磁力搅拌，然后密封避光冷置备用；步骤5：在步骤3的牺牲层上涂敷步骤4准备的光敏聚酰亚胺光刻胶，对涂敷好的光敏聚酰亚胺光刻胶进行前烘，使用步骤1的掩模版进行曝光，再进行显影和后烘固化，形成光敏聚酰亚胺光刻胶衍射图形；步骤6：使用作为牺牲层的光刻胶的配套去胶剂，去除牺牲层以及位于其下的硅片，制成柔性变角度阵列衍射光学器件。