[发明专利]一种位移测量系统及测量方法有效
| 申请号： | 201710984847.1 | 申请日： | 2017-10-20 |
| 公开（公告）号： | CN107941154B | 公开（公告）日： | 2020-01-21 |
| 发明（设计）人： | 侯昌伦;辛青;臧月 | 申请（专利权）人： | 杭州电子科技大学 |
| 主分类号： | G01B11/02 | 分类号： | G01B11/02 |
| 代理公司： | 33224 杭州天勤知识产权代理有限公司 | 代理人： | 胡红娟 |
| 地址： | 310018 浙江省*** | 国省代码： | 浙江;33 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种位移测量系统，其特征在于，所述系统包括：光源；Alvarez透镜组，所述Alvarez透镜组由面形互补的第一Alvarez透镜和第二Alvarez透镜组成，且所述第二Alvarez透镜相对于所述第一Alvarez透镜沿垂直于光轴方向移动，通过调整移动距离调整所述Alvarez透镜组焦距，进而控制所述平行光到达针孔的光能量；针孔，用于透过所述Alvarez透镜组射出会聚光；光探测器，用于探测从所述针孔透过的光能量。本发明提供的测量系统结构简单，仅几个器件结合光学知识就能实现位移的高精度测量，测量精度可达1.33nm。这对于高精度位移传感领域的应用来说，具有很重要的意义。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 位移 测量 系统 测量方法 | ||
【主权项】：
1.一种位移测量方法，其特征在于，实现所述位移测量方法的系统包括：/n光源；/nAlvarez透镜组，所述Alvarez透镜组由面形互补的第一Alvarez透镜和第二Alvarez透镜组成，且所述第二Alvarez透镜相对于所述第一Alvarez透镜沿垂直于光轴方向移动，通过调整移动距离调整所述Alvarez透镜组焦距，进而控制所述光源的出射光到达针孔的光能量；/n针孔，用于透过所述Alvarez透镜组射出会聚光；/n光探测器，用于探测从所述针孔透过的光能量；/n所述位移测量方法包括以下步骤：/n将所述第二Alvarez透镜固定在被测对象上后，所述光源、准直透镜、第一Alvarez透镜、第二Alvarez透镜、针孔以及光探测器沿光轴方向依次布置；/n根据透过针孔的光能量按照公式(1)计算得到第一Alvarez透镜与第二Alvarez透镜的相对位移，该位移为被测对象的位移；/n
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