[发明专利]磁体镀膜装置及方法有效
| 申请号： | 201710985242.4 | 申请日： | 2017-10-20 |
| 公开（公告）号： | CN107808768B | 公开（公告）日： | 2020-04-10 |
| 发明（设计）人： | 吴树杰;董义;袁易;张帅;林晓勤;苗聚昌;刁树林;伊海波;陈雅;袁文杰 | 申请（专利权）人： | 包头天和磁材科技股份有限公司;包头市天之和磁材设备制造有限公司 |
| 主分类号： | H01F41/02 | 分类号： | H01F41/02;C23C14/16 |
| 代理公司： | 北京悦成知识产权代理事务所(普通合伙) 11527 | 代理人： | 樊耀峰;安平 |
| 地址： | 014030 内蒙古自治区包头市*** | 国省代码： | 内蒙古;15 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种磁体镀膜装置及方法。该镀膜装置包括：基片架，其用于承载和输送待镀膜磁体；进料区，其用于接纳待镀膜磁体，并保持真空状态；镀膜区，其用于接纳来自进料区的待镀膜磁体，并在该待镀膜磁体的表面真空溅射上至少一层重稀土金属，从而形成镀膜磁体；出料区，其用于接纳来自镀膜区的镀膜磁体，并保持真空状态；其中，镀膜区包括多个工艺镀膜室，且至少一部分的工艺镀膜室以能够旋转地方式安装有孪生的旋转阴极靶。采用本发明的磁体镀膜装置及方法，镀膜一致性好，靶材本身的使用率较高。 | ||
| 搜索关键词： | 磁体 镀膜 装置 方法 | ||
【主权项】：
一种磁体镀膜装置，其特征在于，其包括：基片架，其用于承载和输送待镀膜磁体；进料区，其用于接纳待镀膜磁体，并保持真空状态；镀膜区，其用于接纳来自进料区的待镀膜磁体，并在该待镀膜磁体的表面真空溅射上至少一层重稀土金属，从而形成镀膜磁体；和出料区，其用于接纳来自镀膜区的镀膜磁体，并保持真空状态；其中，镀膜区包括多个工艺镀膜室，且至少一部分的工艺镀膜室以能够旋转的方式安装有孪生的旋转阴极靶。
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