[发明专利]一种PDMS材料柔性变角度阵列衍射光学器件的制作方法有效

专利信息
申请号: 201710985680.0 申请日: 2017-10-20
公开(公告)号: CN107783215B 公开(公告)日: 2020-05-05
发明(设计)人: 董文;乐孜纯;熊启源;付明磊;卢智易 申请(专利权)人: 浙江工业大学
主分类号: G02B5/18 分类号: G02B5/18;G02B27/48
代理公司: 杭州斯可睿专利事务所有限公司 33241 代理人: 王利强
地址: 310014 浙江省杭*** 国省代码: 浙江;33
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摘要: 一种PDMS材料柔性变角度阵列衍射光学器件的制作方法,包括以下步骤:步骤1:制备好包含N组一维二元衍射光学结构的柔性变角度阵列衍射光学器件掩模版;步骤2:选择硅片作为基底材料,并进行清洗;步骤3:在硅片上涂敷光刻胶,形成光刻胶衍射图形;步骤4:采用干法刻蚀设备,光刻胶图形进行表面粗糙化处理;步骤5:配制液态的PDMS;步骤6:将液态PDMS滴入光刻胶结构;步骤7:经步骤6之后,光刻胶结构图形转移到PDMS材料上并形成固态;步骤8:将固化后的PDMS材料从光刻胶结构上剥离,制成柔性变角度阵列衍射光学器件。本发明全波段散斑抑制效果好、运动方式简单、易于实现、且系统通用性、鲁棒性好、成本低廉。
搜索关键词: 一种 pdms 材料 柔性 角度 阵列 衍射 光学 器件 制作方法
【主权项】:
一种PDMS材料柔性变角度阵列衍射光学器件的制作方法,其特征在于:所述方法包括以下步骤:步骤1:制备好包含N组一维二元衍射光学结构的柔性变角度阵列衍射光学器件掩模版备用;步骤2:选择硅片作为基底材料,并进行清洗;步骤3:在经过步骤2的清洁硅片上涂敷光刻胶,所述光刻胶必须是与聚二甲基硅氧烷PDMS不会产生化学反应、不会互溶、且易于与其分离的光刻胶类型,对涂敷好的光刻胶进行前烘,使用步骤1的掩模版进行曝光,再进行显影和后烘固化,形成光刻胶衍射图形;步骤4:采用干法刻蚀设备,对步骤3的光刻胶图形进行表面粗糙化处理;步骤5:配制液态的聚二甲基硅氧烷PDMS备用,所述液态的二甲基硅氧烷为黏稠液体,是一种具有不同聚合度链状结构的有机硅氧烷混合物,为无色、无味、无毒、不易挥发的液体;步骤6:将步骤5的液态聚二甲基硅氧烷PDMS滴入步骤4的光刻胶结构,一边滴入一边加热固化,滴入的液态聚二甲基硅氧烷PDMS材料要完全覆盖光刻胶结构;步骤7:经步骤6之后,光刻胶结构图形转移到二甲基硅氧烷PDMS材料上并形成固态,固态的聚二甲基硅氧烷PDMS材料称为硅胶,是无毒、疏水性的惰性物质,且为非易燃性、低杨氏模量的结构高弹性透明体;步骤8:将固化后的聚二甲基硅氧烷PDMS材料从光刻胶结构上剥离,制成柔性变角度阵列衍射光学器件。
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