[发明专利]一种基于块匹配的自适应光转移单幅阴影去除方法有效
| 申请号： | 201710987937.6 | 申请日： | 2017-10-21 |
| 公开（公告）号： | CN107808366B | 公开（公告）日： | 2020-07-10 |
| 发明（设计）人： | 何凯;甄蕊;黄婉蓉;沈成南 | 申请（专利权）人： | 天津大学 |
| 主分类号： | G06T5/00 | 分类号： | G06T5/00;G06T7/11;G06T7/136 |
| 代理公司： | 天津市北洋有限责任专利代理事务所 12201 | 代理人： | 李林娟 |
| 地址： | 300072*** | 国省代码： | 天津;12 |
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| 摘要： | 一种基于块匹配的自适应光转移单幅阴影去除方法，包括以下步骤：根据获取的阴影掩膜和初始阴影区域的信息，利用马尔科夫随机场标签计算半影区域；将半影掩膜和阴影掩膜结合在一起，作为检测的阴影区域；利用自适应分解技术将检测的阴影区域分解为均匀的阴影块，将初始非阴影区域分解为均匀的非阴影块，块与块之间相互重叠；对每一个阴影块，利用协方差矩阵矩阵，在非阴影块中寻找与之最相似的像素块；构建可由图像反射率自动调节的参数，对传统的光转移函数进行约束，最后利用该函数对匹配的像素块对进行阴影去除，并利用加权平均进行光一致优化。本发明对不均匀阴影、弯曲表面的阴影、多纹理类型的阴影都能获得高质量的阴影去除效果。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 基于 匹配 自适应 转移 单幅 阴影 去除 方法 | ||
【主权项】：
一种基于块匹配的自适应光转移单幅阴影去除方法，其特征在于，所述阴影去除方法包括以下步骤：1)根据获取的阴影掩膜和初始阴影区域的信息，利用马尔科夫随机场标签计算半影区域；将半影掩膜和阴影掩膜结合在一起，作为检测的阴影区域；2)利用自适应分解技术将检测的阴影区域分解为均匀的阴影块，将初始非阴影区域分解为均匀的非阴影块，块与块之间相互重叠；3)对每一个阴影块，利用协方差矩阵矩阵，在非阴影块中寻找与之最相似的像素块；4)构建可由图像反射率自动调节的参数，对传统的光转移函数进行约束，最后利用该函数对匹配的像素块对进行阴影去除，并利用加权平均进行光一致优化。
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