[发明专利]含砜基稠环结构的具有强双光子效应的给受体型交替聚合物、制法与应用有效
申请号: | 201710992465.3 | 申请日: | 2017-10-23 |
公开(公告)号: | CN107759775B | 公开(公告)日: | 2020-06-05 |
发明(设计)人: | 应磊;胡黎文;彭沣;黄飞;曹镛 | 申请(专利权)人: | 华南协同创新研究院 |
主分类号: | C08G61/12 | 分类号: | C08G61/12;C09K11/06 |
代理公司: | 广州市华学知识产权代理有限公司 44245 | 代理人: | 雷月华 |
地址: | 523808 广东省东莞市松*** | 国省代码: | 广东;44 |
权利要求书: | 暂无信息 | 说明书: | 暂无信息 |
摘要: | 本发明公开了一种含砜基稠环结构的具有强双光子效应的给受体型交替聚合物及其制备方法与应用。本发明制备方法以含砜基稠环结构为缺电子基团,合理选择富电子基团,通过Suzuki聚合反应制得所述的一种含砜基稠环结构的具有强双光子效应的给受体型交替聚合物。本发明的含砜基稠环结构的给受体型交替聚合物具有强的单光子荧光和双光子荧光强度,同时具有良好的溶解性,能溶解在常用有机溶剂中,便于双光子吸收性能的测试与应用,在非线性光学领域具用实际应用价值。 | ||
搜索关键词: | 含砜基稠环 结构 具有 光子 效应 受体 交替 聚合物 制法 应用 | ||
【主权项】:
暂无信息
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