[发明专利]控制系统、其控制方法及其记录介质在审

专利信息
申请号: 201710992596.1 申请日: 2017-10-23
公开(公告)号: CN108020192A 公开(公告)日: 2018-05-11
发明(设计)人: 椹木洋;中村满;河内学 申请(专利权)人: 欧姆龙株式会社
主分类号: G01B21/20 分类号: G01B21/20;G05B19/05
代理公司: 隆天知识产权代理有限公司 72003 代理人: 向勇
地址: 日本*** 国省代码: 暂无信息
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摘要: 一种控制系统、其控制方法及其记录介质,在与其它的子系统共存的集成系统中实施等情况下,对与该其它的子系统的处理负荷进行调节。本发明是具有位移传感器(7)、驱动装置(30、40)以及PLC(1)的PLC系统(SYS)。PLC系统(SYS)在第一固定周期的任务中执行用于获取位移传感器(7)的一维信息和驱动装置(30、40)的位置信息的获取处理,在第二固定周期的任务中执行基于该获取的测量数据来生成二维形状或三维形状的形状数据的生成处理,在该生成处理中能够设定能够在一次任务中处理的处理量。
搜索关键词: 控制系统 控制 方法 及其 记录 介质
【主权项】:
1.一种控制系统,包括:测量装置,用于测量对象物的一维信息;驱动装置,使所述测量装置与所述对象物的相对位置发生变化;以及控制装置,为了基于在所述测量装置中测量的一维信息而获取所述对象物的二维形状或三维形状的信息,对所述测量装置和所述驱动装置进行控制,所述控制装置具有:测量数据获取部,在第一固定周期的任务中执行用于获取所述测量装置的一维信息以及来自所述驱动装置的位置信息的获取处理,并且通过所述获取处理来获取测量数据;以及形状数据生成部,在第二固定周期的任务中执行基于在所述测量数据获取部中获取的所述测量数据来生成二维形状或三维形状的形状数据的生成处理,所述形状数据生成部能够设定能够在一次任务中处理的处理量。
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