[发明专利]一种测量薄膜附着力的装置及定量测量方法在审
申请号: | 201710994543.3 | 申请日: | 2017-10-23 |
公开(公告)号: | CN107655829A | 公开(公告)日: | 2018-02-02 |
发明(设计)人: | 郑艳银;刘洋洋;牟铭;顾宝珊;杨培燕;张启富;梁东明 | 申请(专利权)人: | 新冶高科技集团有限公司 |
主分类号: | G01N19/04 | 分类号: | G01N19/04 |
代理公司: | 北京天达知识产权代理事务所(普通合伙)11386 | 代理人: | 彭霜,许静 |
地址: | 100081 *** | 国省代码: | 北京;11 |
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摘要: | 一种测量薄膜附着力的装置,包括设置在集液槽内的测试参数调节机构,试样台和循环泵;其中所述试样台用于固定薄膜样品;所述循环泵位于液面下方,用于向薄膜样品喷射水流,并调节所述水流的流量和速度;所述测试参数调节机构用于调节喷射水流的高度、调节喷射水流距薄膜试样的距离或调节薄膜样品的倾斜角度。本发明是一种非破坏、自动、易实现、易理解、可重复的测量方法,该装置简单、快速、定量、准确,本发明不仅可以定量测量石墨烯薄膜的附着力,也可以测试其它纳米材料薄膜或者其它类似材料薄膜的附着力,为净水薄膜的镀膜工艺的优化提供理论依据。 | ||
搜索关键词: | 一种 测量 薄膜 附着力 装置 定量 测量方法 | ||
【主权项】:
一种测量薄膜附着力的装置,其特征在于,包括设置在集液槽内的测试参数调节机构,试样台和循环泵;其中:所述试样台用于固定薄膜样品;所述循环泵位于液面下方,用于向薄膜样品喷射水流,并调节所述水流的流量和速度;所述测试参数调节机构用于调节喷射水流的高度、调节喷射水流距薄膜试样的距离或调节薄膜样品的倾斜角度。
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