[发明专利]一种原位合成普鲁士蓝修饰的隔膜的制备方法及其应用在审
| 申请号： | 201710995033.8 | 申请日： | 2017-10-23 |
| 公开（公告）号： | CN107799700A | 公开（公告）日： | 2018-03-13 |
| 发明（设计）人： | 孙克宁;吴宪;张乃庆;范立双 | 申请（专利权）人： | 哈尔滨工业大学 |
| 主分类号： | H01M2/14 | 分类号： | H01M2/14;H01M2/16;H01M10/052 |
| 代理公司： | 哈尔滨龙科专利代理有限公司23206 | 代理人： | 高媛 |
| 地址： | 150000 黑龙*** | 国省代码： | 黑龙江;23 |
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| 摘要： | 一种原位合成普鲁士蓝修饰的隔膜的制备方法及其应用，属于能源材料技术领域。所述方法如下用等离子清洗机处理隔膜2~5min，使其表面转变为亲水结构；将0.1~0.15g普鲁士蓝化合物、0.1~0.2g硝酸铁、5~15mL 0.1M的盐酸及3.0~3.5g PVP加入到80 mL去离子水中搅拌10~30min，加入步骤一处理后的隔膜，80℃静置8~48h，即得到普鲁士蓝化合物修饰的隔膜。本发明的优点是普鲁士蓝对锂硫电池放电中间产物Li2Sn (4≤n≤8) 有很强的吸附作用，能够抑制多硫化锂的溶解，从而抑制穿梭效应，实现高性能锂硫电池的制备；原位生长过程工艺简单，易于操作，易于大规模生产；普鲁士蓝价格便宜、无污染，修饰后的隔膜能够抑制多硫化锂的穿梭效应，制备过程清洁环保，同时能够提升锂硫电池的循环性能。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 原位 合成 普鲁士 修饰 隔膜 制备 方法 及其 应用 | ||
【主权项】：
一种原位合成普鲁士蓝修饰的隔膜的制备方法，其特征在于：所述方法步骤如下：步骤一：用等离子清洗机处理隔膜2~5min，使其表面转变为亲水结构，所述的等离子清洗机的电流为200mA，电压为650V；步骤二：将0.1~0.15g普鲁士蓝化合物、0.1~0.2g硝酸铁、5~15mL 0.1M的盐酸及3.0~3.5g PVP加入到80 mL去离子水中搅拌10~30min，加入步骤一处理后的隔膜，80℃静置8~48h，即得到普鲁士蓝化合物修饰的隔膜。
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