[发明专利]一种交流电模式下的纳米孔单分子荧光成像装置及方法有效
申请号: | 201710995806.2 | 申请日: | 2017-10-23 |
公开(公告)号: | CN107860752B | 公开(公告)日: | 2020-06-23 |
发明(设计)人: | 李景虹;张凌;刘秋翰 | 申请(专利权)人: | 清华大学 |
主分类号: | G01N21/64 | 分类号: | G01N21/64;B82B3/00;B82Y35/00 |
代理公司: | 西安智大知识产权代理事务所 61215 | 代理人: | 段俊涛 |
地址: | 100084 北京市海淀区1*** | 国省代码: | 北京;11 |
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摘要: | 本发明公开了一种交流电模式下的纳米孔单分子荧光成像装置及方法,该装置包括纳米孔成像池、交流信号提供系统和全内反射荧光成像系统;交流电位由交流信号发生系统产生,通过电流放大系统连接电极施加在纳米孔两侧。纳米孔荧光成像由全内反射荧光成像系统实现,纳米孔上、下两侧分别为低、高折射率介质,可实现激发光在纳米孔界面的全内反射。本发明在纳米孔两侧施加交流电位,可以对单分子的穿孔行为进行调控;交流电位的施加对纳米孔的稳定性有显著提高,扩大了工作电压的施加范围;通过全内反射荧光成像系统,实现对单个纳米孔的单分子信号实时荧光成像监控,具有高空间、时间分辨率及高灵敏度的优势。 | ||
搜索关键词: | 一种 交流电 模式 纳米 分子 荧光 成像 装置 方法 | ||
【主权项】:
一种交流电模式下的纳米孔单分子荧光成像装置,其特征在于,包括纳米孔成像池、交流信号提供系统和全内反射荧光成像系统;所述的纳米孔成像池为设有纳米孔膜的纳米孔检测池,纳米孔膜上开设有纳米孔;纳米孔上侧为正检测池,其内设有含有荧光探针和电解质的光密介质;纳米孔下侧为反检测池,其内设有含有指示离子和电解质的光疏介质,当荧光探针结合指示离子后可发光;两支电极的一端分别浸没于正检测池、反检测池的溶液中,另一端伸出纳米孔检测池;所述的交流信号提供系统包括交流信号发生系统,交流信号发生系统输出接口与电流放大系统输入接口相连接,交变电场通过电流放大系统在纳米孔检测池中的两支电极之间施加交流电势;所述的全内反射荧光成像系统包括激光光源、全内反射荧光成像光路、高数值孔径物镜和单光子检测器。
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