[发明专利]一种基于电磁波近场整形的副瓣电平确定方法及装置有效
| 申请号： | 201711008237.4 | 申请日： | 2017-10-25 |
| 公开（公告）号： | CN107729666B | 公开（公告）日： | 2021-01-08 |
| 发明（设计）人： | 王卫民;刘元安;高华强;吴永乐;苏明;于翠屏;黎淑兰 | 申请（专利权）人： | 北京邮电大学 |
| 主分类号： | G06F30/27 | 分类号： | G06F30/27;G06N3/12;G06N3/00;G06F111/06 |
| 代理公司： | 北京柏杉松知识产权代理事务所(普通合伙) 11413 | 代理人： | 马敬;项京 |
| 地址： | 100876 *** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： | 本发明实施例提供了一种基于电磁波近场整形的副瓣电平确定方法及装置，其中，该方法包括：获取根据圆口径天线面沿半径分布的电场值所得到的待优化的适应度函数；利用进化算法，对适应度函数进行优化，得到优化后的圆口径天线面沿半径分布的预设数量个的电场值；利用优化后的圆口径天线面沿半径分布的预设数量个的电场值，通过适应度函数还包括的圆口径天线面的电场值与圆整形面的电场值对应关系的函数，确定出优化后的圆整形面沿半径分布的电场值；利用优化后的圆整形面沿半径分布的电场值中的电场幅度值的最大值和次大值，确定优化后的圆整形面沿半径分布的副瓣电平。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 基于 电磁波 近场 整形 电平 确定 方法 装置 | ||
【主权项】：
一种基于电磁波近场整形的副瓣电平确定方法，其特征在于，包括：获取根据圆口径天线面沿半径分布的电场值所得到的待优化的适应度函数，所述适应度函数包括：对圆整形面上多个副瓣电场幅度值对应的归一化的电场幅度值向量求最大副瓣电场幅度值的函数，和/或对圆整形面上多个副瓣电场幅度值对应的归一化的电场幅度值向量求和函数；利用进化算法，对所述适应度函数进行优化，得到优化后的圆口径天线面沿半径分布的预设数量个的电场值，该进化算法的输入参数对应的数值包括：待优化变量对应的所述预设数量个的个数、预设种群大小、所述预设迭代次数、所述适应度函数；利用优化后的圆口径天线面沿半径分布的预设数量个的电场值，通过所述适应度函数还包括的圆口径天线面的电场值与圆整形面的电场值对应关系的函数，确定出优化后的圆整形面沿半径分布的电场值；利用优化后的圆整形面沿半径分布的电场值中的电场幅度值的最大值和次大值，确定优化后的圆整形面沿半径分布的副瓣电平。
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