[发明专利]光致抗蚀剂面漆组合物和加工光致抗蚀剂组合物的方法在审

专利信息
申请号: 201711009144.3 申请日: 2017-10-25
公开(公告)号: CN108020987A 公开(公告)日: 2018-05-11
发明(设计)人: 刘骢;D·H·康;D·王;C-B·徐;李明琦;I·考尔 申请(专利权)人: 罗门哈斯电子材料有限责任公司
主分类号: G03F7/004 分类号: G03F7/004;G03F7/20
代理公司: 上海专利商标事务所有限公司 31100 代理人: 陈哲锋;胡嘉倩
地址: 美国马*** 国省代码: 暂无信息
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摘要: 光致抗蚀剂面漆组合物,其包含:包含通式(I)的第一重复单元和通式(II)的第二重复单元的第一聚合物:其中:R1独立地表示H、F或任选氟化的C1到C4烷基;R2表示任选氟化的直链、分支链或环状C1到C20烷基;L1表示单键或多价键联基团;并且n为1到5的整数;包含通式(III)的第一重复单元和通式(IV)的第二重复单元的第二聚合物:其中:R3独立地表示H、F或任选氟化的C1到C4烷基;R4表示直链、分支链或环状C1到C20烷基;R5表示直链、分支链或环状C1到C20氟烷基;L2表示单键或多价键联基团;并且n为1到5的整数;以及溶剂。还提供涂布有所述面漆组合物的经涂布衬底和加工光致抗蚀剂组合物的方法。本发明尤其适用于制造半导体装置。
搜索关键词: 光致抗蚀剂面漆 组合 加工 光致抗蚀剂 方法
【主权项】:
1.一种光致抗蚀剂面漆组合物,其包含:第一聚合物,其包含通式(I)的第一重复单元和通式(II)的第二重复单元:其中:R1独立地表示H、F或任选氟化的C1到C4烷基;R2表示任选氟化的直链、分支链或环状C1到C20烷基;L1表示单键或多价键联基团;并且n为1到5的整数;第二聚合物,其包含通式(III)的第一重复单元和通式(IV)的第二重复单元:其中:R3独立地表示H、F或任选氟化的C1到C4烷基;R4表示直链、分支链或环状C1到C20烷基;R5表示直链、分支链或环状C1到C20氟烷基;L2表示单键或多价键联基团;并且n为1到5的整数;以及溶剂。
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