[发明专利]短波红外成像芯片及其形成方法在审

专利信息
申请号: 201711015515.9 申请日: 2017-10-26
公开(公告)号: CN107785388A 公开(公告)日: 2018-03-09
发明(设计)人: 胡少坚;陈寿面 申请(专利权)人: 上海集成电路研发中心有限公司
主分类号: H01L27/146 分类号: H01L27/146;H01L31/109
代理公司: 上海思微知识产权代理事务所(普通合伙)31237 代理人: 王仙子
地址: 201210 上海*** 国省代码: 上海;31
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摘要: 发明提供一种短波红外成像芯片及其形成方法,短波红外成像芯片包括短波红外二极管和读出电路,短波红外二极管包括辅助成核层、缓冲层和铟镓砷PN结,读出电路包括MOS管,MOS管的一源/漏极连接铟镓砷PN结的N极。本发明提供的短波红外成像芯片及其形成方法,其短波红外二极管具有辅助成核层和缓冲层,在辅助成核层的诱导结晶作用下可以适用于多种的衬底,由于辅助成核层以及缓冲层的作用使短波红外二极管及其形成方式可以利用多种尺寸、多种材料的衬底,降低对衬底的要求,可提高短波红外成像芯片的应用设计的灵活性;通过短波红外二极管与读出电路的连接直接集成于衬底上,可减少器件所占用的面积,从而可提高短波红外成像芯片的像素密度。
搜索关键词: 短波 红外 成像 芯片 及其 形成 方法
【主权项】:
一种短波红外成像芯片,其特征在于,所述短波红外成像芯片包括:短波红外二极管,所述短波红外二极管位于衬底上,所述短波红外二级管包括辅助成核层、缓冲层和铟镓砷PN结,所述辅助成核层用于诱导结晶,所述缓冲层设置在所述辅助成核层上,所述铟镓砷PN结设置在所述缓冲层上;读出电路,所述读出电路位于所述衬底上,所述读出电路包括MOS管,所述MOS管的一源/漏极连接所述铟镓砷PN结的N极。
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