[发明专利]基于WO3栅介质的金刚石场效应晶体管及制作方法在审

专利信息
申请号: 201711017935.0 申请日: 2017-10-26
公开(公告)号: CN107919390A 公开(公告)日: 2018-04-17
发明(设计)人: 张金风;苏凯;徐佳敏;张进成;郝跃 申请(专利权)人: 西安电子科技大学
主分类号: H01L29/51 分类号: H01L29/51;H01L29/78;H01L21/04
代理公司: 陕西电子工业专利中心61205 代理人: 王品华,朱红星
地址: 710071 陕*** 国省代码: 陕西;61
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摘要: 发明公开了一种基于WO3栅介质的金刚石场效应晶体管及制作方法,主要解决了现有金刚石场效应晶体管跨导低和稳定性差的问题。其自下而上包括金刚石衬底(1)、氢终端表面(2)和栅介质层(3),栅介质层(3)的上面是栅电极(4),栅介质层(3)的两侧分别设有源电极(5)和漏电极(6),栅、源和漏电极的表面覆盖有钝化层(7),钝化层(7)与栅、源和漏电极的键合处分别设有通孔(8)。其中栅介质层采用具有转移掺杂作用的WO3材料,钝化层采用WO3材料,源、漏电极材料为Au,栅电极材料为Al。本发明具有导通电阻低,跨导高的优点,用于微波电路或高温数字电路。
搜索关键词: 基于 wo3 介质 金刚石 场效应 晶体管 制作方法
【主权项】:
一种基于WO3栅介质的金刚石场效应晶体管,自下而上包括金刚石衬底(1)、氢终端表面(2)和栅介质层(3),栅介质层(3)的上面是栅电极(4),栅介质层(3)的两侧分别设有源电极(5)和漏电极(6),栅电极(4)、源电极(5)和漏电极(6)的表面覆盖有钝化层(7),钝化层(7)与栅电极(4)、源电极(5)和漏电极(6)的键合处分别设有通孔(8),其特征在于:栅介质层(3)采用厚度为10~40nm的WO3材料;钝化层(7)采用30~100nm的WO3材料。
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