[发明专利]基于符合测量的红外成像方法及系统在审
| 申请号： | 201711019585.1 | 申请日： | 2017-10-27 |
| 公开（公告）号： | CN107976687A | 公开（公告）日： | 2018-05-01 |
| 发明（设计）人： | 罗春伶;冯晓华;毕宇波;雷鹏;李宗霖;佀化冲 | 申请（专利权）人： | 华东交通大学 |
| 主分类号： | G01S17/89 | 分类号： | G01S17/89 |
| 代理公司： | 北京清亦华知识产权代理事务所(普通合伙)11201 | 代理人： | 何世磊 |
| 地址： | 330013*** | 国省代码： | 江西;36 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种基于符合测量的红外成像方法及系统，所述方法包括在物光路中利用单像素红外探测器收集经目标物体反射后的任一点光场强度并作为物光路信息，同时在参考光路中利用随机分布光源获取参考光路信息，所述物光路和所述参考光路为同源光场，且相关独立，所述目标物体不在所述参考光路中；对所述物光路信息与所述参考光路信息的强度涨落进行符合运算，以获得所述目标物体的图像成像信息。本发明解决传统红外成像技术中存在抗干扰性差、成像设备昂贵的问题。 | ||
| 搜索关键词： | 基于 符合 测量 红外 成像 方法 系统 | ||
【主权项】：
一种基于符合测量的红外成像方法，其特征在于，包括：在物光路中利用单像素红外探测器收集经目标物体反射后的任一点光场强度并作为物光路信息，同时在参考光路中利用随机分布光源获取参考光路信息，所述物光路和所述参考光路为同源光场，且相关独立，所述目标物体不在所述参考光路中；对所述物光路信息与所述参考光路信息的强度涨落进行符合运算，以获得所述目标物体的图像成像信息。
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