[发明专利]一种半导体零件清洗装置

摘要

本发明公开了一种半导体零件清洗装置，包括水平设置的清洗池，在清洗池上端设有清洗装置，清洗装置包括设置在清洗池上端的支撑架，沿支撑架宽度方向并排设有多个支撑座，沿支撑座长度方向并排设有滑轨、橡胶板，滑轨上设有多个滑座，在滑座一侧均设有圆弧状的半导体放置架，在半导体放置架内部设有多个从动滚轮，其中位于半导体放置架最低端处设有过孔和部分穿过过孔与橡胶板配合的主动轮，半导体放置架远离滑轨的一端设有拨杆；在支撑座下方设有传送带，传送带上等间距设有与拨杆相配合的挡板，通过挡板与拨杆的配合，从而驱动半导体放置架沿滑轨长度方向移动；沿支撑架长度方向且位于半导体放置架的两侧依次设有多个水管。

主权项

一种半导体零件清洗装置，包括水平设置的清洗池（1），其特征在于：在所述清洗池（1）上端设有清洗装置，所述清洗装置包括设置在清洗池（1）上端的支撑架（2），沿所述支撑架（2）宽度方向并排设有多个支撑座（3），沿所述支撑座（3）长度方向并排设有滑轨（4）、橡胶板（9），所述滑轨（4）上设有多个滑座（5），在所述滑座（5）一侧均设有圆弧状的半导体放置架（6），在所述半导体放置架（6）内部设有多个从动滚轮（7），其中位于半导体放置架（6）最低端处设有过孔（8）和部分穿过过孔（8）与橡胶板（9）配合的主动轮（10），所述半导体放置架（6）远离滑轨（4）的一端设有拨杆（11）；在所述支撑座（3）下方设有传送带（12），所述传送带（12）上等间距设有与拨杆（11）相配合的挡板（13），通过挡板（13）与拨杆（11）的配合，从而驱动半导体放置架（6）沿滑轨（4）长度方向移动；沿所述支撑架（2）长度方向且位于半导体放置架（6）的两侧依次设有多个水管（14），所述水管（14）竖直设置，且沿所述水管（14）长度方向设有多个喷嘴（15）。