[发明专利]一种用于高光谱成像仪的光学玻璃的设计方法在审
| 申请号： | 201711023605.2 | 申请日： | 2017-10-27 |
| 公开（公告）号： | CN107782446A | 公开（公告）日： | 2018-03-09 |
| 发明（设计）人： | 尹禄;潘明忠;卢禹先;谢锋 | 申请（专利权）人： | 中国科学院上海技术物理研究所杭州大江东空间信息技术研究院 |
| 主分类号： | G01J3/02 | 分类号： | G01J3/02 |
| 代理公司： | 成都顶峰专利事务所(普通合伙)51224 | 代理人： | 赵正寅 |
| 地址： | 310000 浙江省杭州*** | 国省代码： | 浙江;33 |
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| 摘要： | 本发明提供了一种用于高光谱成像仪的光学玻璃的设计方法，属于光学设计技术领域，该光学玻璃的设计方法包括装调步骤、测量步骤和镀膜步骤，装调步骤是使入射光穿过高光谱成像仪的入射狭缝，然后入射光依次穿过准直系统、分光系统和聚焦系统后，由探测器接收，探测器接收到的光谱包括一级光谱和二级光谱，对高光谱成像仪进行装调，计算出探测器与聚焦系统之间任意位置处二级光谱所在的位置，测量探测器的光谱响应曲线，记录光谱响应曲线的结果，并根据光谱响应曲线结果计算相应的光谱响应均匀校正透过率曲线，在光学玻璃的一侧镀二级光谱滤光膜层，另一侧镀光谱响应均匀校正膜层。该光学玻璃的设计方法操作简单、方便，制造成本低，易实现。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 用于 光谱 成像 光学玻璃 设计 方法 | ||
【主权项】：
一种用于高光谱成像仪的光学玻璃的设计方法，其特征在于，所述光学玻璃用于对二级光谱进行过滤，以及对光谱响应进行校正，该光学玻璃的设计方法包括以下步骤：装调步骤：使入射光穿过高光谱成像仪的入射狭缝，然后入射光依次穿过准直系统、分光系统和聚焦系统后，由探测器接收，探测器接收到的光谱包括一级光谱和二级光谱，对高光谱成像仪进行装调，计算出探测器与聚焦系统之间任意位置处二级光谱所在的位置；测量步骤：测量探测器的光谱响应曲线，记录光谱响应曲线的结果，并根据光谱响应曲线结果计算相应的光谱响应均匀校正透过率曲线；镀膜步骤：在探测器与聚焦系统之间的某一位置设置一片光学玻璃，根据二级光谱在光学玻璃上的位置，在光学玻璃的靠近聚焦系统的一侧相应区域镀一层二级光谱滤光膜层，二级光谱滤光膜层用于对二级光谱进行过滤；根据光谱响应均匀校正透过率曲线，在光学玻璃的靠近探测器的一侧镀一层光谱响应均匀校正膜层，光谱响应均匀校正膜层用于对光谱响应进行校正。
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