[发明专利]一种用于真空处理装置的静电夹盘维护装置及维护方法有效
| 申请号： | 201711026362.8 | 申请日： | 2017-10-26 |
| 公开（公告）号： | CN109712908B | 公开（公告）日： | 2020-10-30 |
| 发明（设计）人： | 陈星健;贺小明;魏强;李一平 | 申请（专利权）人： | 中微半导体设备（上海）股份有限公司 |
| 主分类号： | H01L21/67 | 分类号： | H01L21/67;H01L21/683 |
| 代理公司： | 上海信好专利代理事务所(普通合伙) 31249 | 代理人： | 朱成之 |
| 地址： | 201201 上海市浦东新*** | 国省代码： | 上海;31 |
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| 摘要： | 本发明提供一种用于真空处理装置的静电夹盘维护工具，包括：支撑底板，所述支撑底板上表面固定有一个旋转基座，一个连接杆，所述连接杆包括第一端连接到一个压力杆，第二端连接到所述旋转基座上，使得旋转臂围绕所述旋转基座作圆周运动，所述压力杆下端包括摩擦头，摩擦头底面包括摩擦片，摩擦片围绕所述支撑底板的外边缘作圆周运动，且所述圆周运动能够覆盖所述静电夹盘上表面的密封环。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 用于 真空 处理 装置 静电 维护 方法 | ||
【主权项】：
1.一种用于真空处理装置的静电夹盘维护工具，包括：支撑底板，所述支撑底板下表面用于放置在静电夹盘上表面，所述支撑底板上表面固定有一个旋转基座，一个旋转臂，所述旋转臂包括第一端连接到所述旋转基座上，使得旋转臂围绕所述旋转基座作圆周运动，所述旋转臂还包括第二端连接到一个压力杆；所述压力杆下端包括一个摩擦头，摩擦头底面包括摩擦片，摩擦片围绕所述支撑底板的外边缘作圆周运动，且所述圆周运动能够覆盖所述静电夹盘上表面的密封环。
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H01L 半导体器件；其他类目中不包括的电固体器件
H01L21-00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21-02 .半导体器件或其部件的制造或处理
H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
H01L21-66 .在制造或处理过程中的测试或测量
H01L21-67 .专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置；专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
H01L21-70 .由在一共用基片内或其上形成的多个固态组件或集成电路组成的器件或其部件的制造或处理；集成电路器件或其特殊部件的制造
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