[发明专利]一种基底预对准方法和装置以及一种光刻机有效
| 申请号： | 201711046776.7 | 申请日： | 2017-10-31 |
| 公开（公告）号： | CN109725506B | 公开（公告）日： | 2020-11-13 |
| 发明（设计）人： | 田翠侠;孙伟旺;杜荣 | 申请（专利权）人： | 上海微电子装备（集团）股份有限公司 |
| 主分类号： | G03F9/00 | 分类号： | G03F9/00 |
| 代理公司： | 上海思微知识产权代理事务所(普通合伙) 31237 | 代理人： | 屈蘅;李时云 |
| 地址： | 201203 上*** | 国省代码： | 上海;31 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 本发明提供的一种基底预对准方法和装置以及一种光刻机，所述基底预对准方法包括选取基准基底，获取所述基准基底的图像；获取待预对准基底的图像；将所述待预对准基底的图像与所述基准基底的图像进行配准，得出完成配准的预对准基底的图像的偏移参数；根据所述偏移参数调整所述待预对准基底的角度，完成基底预对准；所述基底预对准装置包括定位装置，图像采集分析装置以及控制装置。使用本发明提供的一种基底预对准方法和装置以及一种光刻机，无需在基底上进行特定的标记便可实现对基底的预对准操作，通用性更强，有利于提高生产效率。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 基底 对准 方法 装置 以及 光刻 | ||
【主权项】：
1.一种基底预对准方法，其特征在于，包括如下步骤：选取基准基底，获取所述基准基底的图像；获取待预对准基底的图像；将所述待预对准基底的图像与所述基准基底的图像进行配准，得出完成配准的预对准基底的图像的偏移参数；根据所述偏移参数调整所述待预对准基底的角度，完成基底预对准。
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于上海微电子装备（集团）股份有限公司，未经上海微电子装备（集团）股份有限公司许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/patent/201711046776.7/，转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇：一种印制线路板用显影液及其制备方法
- 下一篇：电子照相感光体
