[发明专利]保护气氛离子液体镀前处理设备在审
| 申请号： | 201711046917.5 | 申请日： | 2017-10-31 |
| 公开（公告）号： | CN107620099A | 公开（公告）日： | 2018-01-23 |
| 发明（设计）人： | 凌国平;方旭峰 | 申请（专利权）人： | 东阳市艾克思科技有限公司 |
| 主分类号： | C25D5/42 | 分类号： | C25D5/42;C25D5/44 |
| 代理公司： | 杭州求是专利事务所有限公司33200 | 代理人： | 林怀禹 |
| 地址： | 322100 浙江省金华*** | 国省代码： | 浙江;33 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种保护气氛离子液体镀前处理设备。装有惰性气体的气瓶出口经第一阀门与密封箱体连接，在密封箱体上方装有露点仪，氧探头，第一压力表；密封箱体左侧装有第一过渡仓，第一过渡仓水平方向开有第一仓门和连接密封箱体的第二仓门，第一阀门又与第一过渡仓连接；第二阀门的第一端口连接第一过渡仓，第二端口连接真空泵，第三端口连接密封箱体；循环泵的第一端口与密封箱体连接，第二端口经净化柱与密封箱体连接；密封箱体右侧装有第二过渡仓，第二过渡仓水平方向两侧分别开有连接保护气氛离子液体镀设备的右仓门和连接密封箱体的左仓门。本发明使待镀件在前处理过程及镀液始终受惰性气体的保护，不被氧化，从而确保镀层与基体的结合。 | ||
| 搜索关键词： | 保护 气氛 离子 液体 处理 设备 | ||
【主权项】：
一种保护气氛离子液体镀前处理设备，其特征在于：包括装有惰性气体的气瓶(1)，第一阀门(3)，露点仪(5)，氧探头(6)，第一压力表(7)，密封前处理液的箱体(8)，第二过渡仓(11)，净化柱(12)，循环泵(13)，真空泵(21)，第二阀门(24)，第一仓门(26)，第二压力表(28)，第一过渡仓(29)，第二仓门(30)；所述气瓶(1)出口与第一阀门(3)的第一端口连接，在密封前处理液的箱体(8)上方分别装有露点仪(5)，氧探头(6)，第一压力表(7)；密封前处理液的箱体(8)左侧装有连接第二压力表(28)的第一过渡仓(29)，第一过渡仓(29)水平方向开有第一仓门(26)和连接密封前处理液的箱体(8)的第二仓门(30)；第一阀门(3)的第二端口连接密封前处理液的箱体(8)，第一阀门(3)的第三端口连接第一过渡仓(29)，第二阀门(24)的第一端口连接第一过渡仓(29)，第二阀门(24)的第二端口连接真空泵(21)，第二阀门(24)的第三端口连接密封前处理液的箱体(8)，循环泵(13)的第一端口与密封前处理液的箱体(8)连接，循环泵(13)的第二端口经净化柱(12)与密封前处理液的箱体(8)连接；密封前处理液的箱体(8)右侧装有第二过渡仓(11)，第二过渡仓(29)水平方向两侧分别开有连接保护气氛离子液体镀设备(10)的右仓门和连接密封前处理液的箱体(8)的左仓门。
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