[发明专利]土石框架复合堤在审

专利信息
申请号: 201711047965.6 申请日: 2017-10-31
公开(公告)号: CN107653837A 公开(公告)日: 2018-02-02
发明(设计)人: 李振宇;白立;余玉龙;孙永义;高乐;陈青青;程挺婵;陈开谱;吴道合 申请(专利权)人: 温州市水利电力勘测设计院;李振宇
主分类号: E02B3/10 分类号: E02B3/10;E02B3/12;E02D5/34;E02D27/12;A01G9/02;E01C13/06
代理公司: 上海精晟知识产权代理有限公司31253 代理人: 冯子玲
地址: 325000 浙江省温州*** 国省代码: 浙江;33
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摘要: 发明提供一种土石框架复合堤,该土石框架复合堤包括堤身、堤身前段以及堤身后段。堤身包括堤身路面、空箱框架、素砼垫层以及两排砼灌注桩;空箱框架由多个钢筋砼板所围护而成且形成于堤身路面的下方;素砼垫层形成于空箱框架的底部,两排砼灌注桩形成于素砼垫层的下方。堤身前段包括位于空箱框架前侧的第一土石方回填层和形成在第一土石方回填层上方的梯级花坛。堤身后段包括位于空箱框架后侧的第二土石方回填层和形成在第二土石方回填层上并向堤身后侧延伸的景观绿化斜坡。
搜索关键词: 土石 框架 复合
【主权项】:
一种土石框架复合堤,其特征在于,包括:堤身,包括堤身路面、空箱框架、素砼垫层以及两排砼灌注桩;空箱框架由多个钢筋砼板所围护而成且形成于所述堤身路面的下方;素砼垫层形成于所述空箱框架的底部,两排砼灌注桩形成于素砼垫层的下方;堤身前段,包括位于空箱框架前侧的第一土石方回填层和形成在第一土石方回填层上方的梯级花坛;堤身后段,包括位于空箱框架后侧的第二土石方回填层和形成在第二土石方回填层上并向堤身后侧延伸的景观绿化斜坡。
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