[发明专利]一种带阻型FSS结构、FSS屏及罩壁结构有效

专利信息
申请号: 201711053340.0 申请日: 2017-11-01
公开(公告)号: CN109755740B 公开(公告)日: 2021-06-22
发明(设计)人: 杨帆;张春波;阳开华;张明秀;樊君 申请(专利权)人: 航天特种材料及工艺技术研究所
主分类号: H01Q1/42 分类号: H01Q1/42;H01Q15/00
代理公司: 暂无信息 代理人: 暂无信息
地址: 100074 北京*** 国省代码: 北京;11
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摘要: 发明提供一种带阻型FSS结构、FSS屏及罩壁结构,所述的FSS结构由一层带阻形FSS单元结构构成,所述的FSS单元结构由多个偶极子复合而成,且所述的FSS单元结构采用正方形栅格周期排列。本发明且仅需一层FSS结构,可实现插入损耗小于1dB,带外频段具备强隐身隐身、陡截止特性,同时在宽入射角度范围内保持高稳定度;且FSS结构可通过调节单元尺寸、介质电参数和厚度来满足不同工作带宽的需求。
搜索关键词: 一种 带阻型 fss 结构
【主权项】:
1.一种带阻型FSS结构,其特征在于:所述的FSS结构由一层带阻形FSS单元结构构成,所述的FSS单元结构由多个偶极子复合而成,且所述的FSS单元结构采用正方形栅格周期排列。
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