[发明专利]一种ECR离子刻蚀加工表面织构并精确控制织构尺寸方法有效

专利信息
申请号: 201711058082.5 申请日: 2017-11-01
公开(公告)号: CN107857234B 公开(公告)日: 2020-10-27
发明(设计)人: 陈思成;杨雷;刁东风;郭美玲 申请(专利权)人: 西安交通大学
主分类号: B81C1/00 分类号: B81C1/00;C23C14/06;B82Y40/00
代理公司: 西安通大专利代理有限责任公司 61200 代理人: 徐文权
地址: 710049 陕*** 国省代码: 陕西;61
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摘要: 发明公开了一种ECR离子刻蚀加工表面织构并精确控制织构尺寸方法,利用ECR等离子体加工系统,通过调节掩模版的孔径尺寸及离子刻蚀时间,可实现表面织构的参数调控。利用共聚焦显微镜对织构形貌进行表征可发现,织构直径为10~120μm可调,且深度与刻蚀时间成正相关,刻蚀速率为1nm/min,加工后样品的摩擦磨损性能获得大幅度提高,便于实现表面织构的加工并精确控制织构尺寸。
搜索关键词: 一种 ecr 离子 刻蚀 加工 表面 精确 控制 尺寸 方法
【主权项】:
一种ECR离子刻蚀加工表面织构并精确控制织构尺寸方法,其特征在于,利用ECR等离子体加工系统对已沉积的碳膜进行表面织构加工,通过调节掩模版的孔径尺寸及离子刻蚀时间,实现表面织构的参数调控;利用共聚焦显微镜对织构形貌进行表征,确定织构的直径为10~120μm,制备摩擦系数在0.18~0.06,磨损寿命为10000圈以上的织构化碳膜。
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