[发明专利]一种处理盒的显影检测方法及处理盒有效

专利信息
申请号: 201711065278.7 申请日: 2017-11-02
公开(公告)号: CN108073063B 公开(公告)日: 2022-03-18
发明(设计)人: 刘金莲;黄万红;容学宇 申请(专利权)人: 纳思达股份有限公司
主分类号: G03G21/18 分类号: G03G21/18
代理公司: 北京汇思诚业知识产权代理有限公司 11444 代理人: 王刚;龚敏
地址: 519060 广东省珠海市香洲区珠海大道3883号01栋2*** 国省代码: 广东;44
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摘要: 发明涉及一种处理盒的显影检测方法及处理盒,该处理盒可拆卸地安装在电子成像装置中,电子成像装置包括发光元件和受光元件,所述处理盒包括第一透光元件和第二透光元件,所述电子成像装置通过发光元件发出检测光至处理盒的第一透光元件并将检测光反射至第二透光元件,所述第二透光元件将检测光引导至所述电子成像装置的受光元件中,当受光元件没有接收到检测光或接收到的检测光的光强度或光照时间低于预设值时,所述电子成像装置识别所述处理盒,所述处理盒可与电子成像装置进行显影工作。
搜索关键词: 一种 处理 显影 检测 方法
【主权项】:
1.一种处理盒的显影检测方法,该处理盒可拆卸地安装在电子成像装置中,电子成像装置包括发光元件和受光元件,所述处理盒包括第一透光元件和第二透光元件,其特征在于:所述电子成像装置通过发光元件发出检测光至处理盒的第一透光元件,第一透光元件再将检测光反射至第二透光元件,所述第二透光元件将检测光引导至所述电子成像装置的受光元件中,当受光元件没有接收到检测光或接收到的检测光的光强度或光照时间低于预设值时,所述电子成像装置识别所述处理盒,所述处理盒可与电子成像装置进行显影工作;所述处理盒的显影检测方法包括如下步骤:A.对所述处理盒的显影单元表面进行涂覆显影剂;B.降低从第一透光元件反射至第二透光元件的检测光的光强度或光照时间;C.使所述处理盒与电子成像装置进行显影工作。
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