[发明专利]化学机械研磨装置有效
| 申请号： | 201711065614.8 | 申请日： | 2017-11-02 |
| 公开（公告）号： | CN107695867B | 公开（公告）日： | 2019-06-14 |
| 发明（设计）人： | 岳志刚;林宗贤;吴龙江;辛君 | 申请（专利权）人： | 德淮半导体有限公司 |
| 主分类号： | B24B37/10 | 分类号： | B24B37/10;B24B37/34;B24B57/02 |
| 代理公司： | 北京集佳知识产权代理有限公司 11227 | 代理人： | 徐文欣;吴敏 |
| 地址： | 223302 江苏*** | 国省代码： | 江苏;32 |
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| 摘要： | 一种化学机械研磨装置，包括：研磨主腔装置，研磨主腔装置包括承载墙壁，研磨主腔装置包括底主腔体和固定于底主腔体顶部的顶主腔体，顶主腔体中具有研磨液供给器；位于底主腔体的承载墙壁中的第一维护门；位于顶主腔体的承载墙壁中的第二维护门，第二维护门中具有贯穿第二维护门的第一开口；固定于研磨主腔装置外壁的顶悬挂腔体，顶悬挂腔体包括悬挂腔壁，悬挂腔壁与承载墙壁固定，悬挂腔壁中具有贯穿悬挂腔壁的第二开口，第二开口与第一开口连通；位于顶悬挂腔体底部表面的第一引流槽。所述化学机械研磨装置改善了漏水现象。 | ||
| 搜索关键词： | 化学 机械 研磨 装置 | ||
【主权项】：
1.一种化学机械研磨装置，其特征在于，包括：研磨主腔装置，研磨主腔装置包括承载墙壁，研磨主腔装置包括底主腔体和固定于底主腔体顶部的顶主腔体，顶主腔体中具有研磨液供给器；位于底主腔体的承载墙壁中的第一维护门；位于顶主腔体的承载墙壁中的第二维护门，第二维护门中具有贯穿第二维护门的第一开口；固定于研磨主腔装置外壁的顶悬挂腔体，顶悬挂腔体包括悬挂腔壁，悬挂腔壁与承载墙壁固定，悬挂腔壁中具有贯穿悬挂腔壁的第二开口，第二开口与第一开口连通；位于顶悬挂腔体底部表面的第一引流槽。
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