[发明专利]光学邻近校正方法有效
| 申请号： | 201711070108.8 | 申请日： | 2017-11-03 |
| 公开（公告）号： | CN107797391B | 公开（公告）日： | 2020-04-24 |
| 发明（设计）人： | 时雪龙;赵宇航;陈寿面;李铭 | 申请（专利权）人： | 上海集成电路研发中心有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20;G03F1/36 |
| 代理公司： | 上海天辰知识产权代理事务所(特殊普通合伙) 31275 | 代理人： | 吴世华;陈慧弘 |
| 地址： | 201210 上海市*** | 国省代码： | 上海;31 |
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| 摘要： |
本发明提供一种光学邻近校正方法，包括：利用光学邻近校正算法将版图图形的边缘分解成多个片段，在每个片段中取一点作为相邻环境探测点；计算每个片段的相邻环境探测点的成像信号值集合{S |
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| 搜索关键词： | 光学 邻近 校正 方法 | ||
【主权项】：
一种光学邻近校正方法，其特征在于，包括：利用光学邻近校正算法将版图图形的边缘分解成多个片段，在每个片段中取一点作为相邻环境探测点；计算每个片段的相邻环境探测点的成像信号值集合{S1，S2，S3，…Sn}，n为正整数；将各所述成像信号值集合{S1，S2，S3，…Sn}作为一神经网络模型的输入，所述神经网络模型输出每个片段的最优位移(ΔX，ΔY)；根据所述每个片段的最优位移(ΔX，ΔY)分别移动每个所述片段以获得所述版图图形的最优图形。
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