[发明专利]一种镍化铁纳米棒的制备方法有效
申请号: | 201711070988.9 | 申请日: | 2017-11-03 |
公开(公告)号: | CN107805795B | 公开(公告)日: | 2019-10-11 |
发明(设计)人: | 裴立宅;仇方吕 | 申请(专利权)人: | 安徽工业大学 |
主分类号: | C23C16/08 | 分类号: | C23C16/08;C23C16/44;B82Y40/00 |
代理公司: | 安徽知问律师事务所 34134 | 代理人: | 杜袁成 |
地址: | 243002 安徽*** | 国省代码: | 安徽;34 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | 本发明公开了一种镍化铁纳米棒的制备方法,属于纳米材料制备技术领域。该方法具体是:首先将氯化铁与氯化镍混合均匀,然后将氯化铁与氯化镍混合粉末置于反应容器的高温区,氧化铝片置于反应容器的低温区,密封反应容器,将反应容器抽至真空,将高温区加热至1000~1100℃、低温区加热至100~200℃,保温0.5~2h,得到了表面含有褐色沉积物的氧化铝片;随后将该氧化铝片固定于反应容器中间,将氯化铁、氯化镍、硼氢化钠与乙醇混合后置于反应容器内并密封,于200~300℃下保温24~72h。本发明采用两步反应过程,制备过程简单、易于控制,所得镍化铁纳米棒在电子器件、磁性器件及微波器件等方面具有良好的应用前景。 | ||
搜索关键词: | 镍化铁纳米棒 氧化铝片 氯化镍 氯化铁 低温区 高温区 制备 加热 保温 沉积物 纳米材料制备技术 密封反应容器 磁性器件 电子器件 混合粉末 两步反应 硼氢化钠 微波器件 乙醇混合 制备过程 密封 应用 | ||
【主权项】:
1.一种镍化铁纳米棒的制备方法,其特征在于,所述制备方法如下:步骤1:以氯化铁、氯化镍作为原料,氧化铝片作为沉积衬底,含有氩气和氢气的混合气体作为载气,首先将氯化铁与氯化镍混合均匀,然后将氯化铁与氯化镍的混合粉末置于刚玉管反应容器的高温区,氧化铝片置于刚玉管反应容器的低温区,并密封反应容器,将反应容器抽至真空,随后将高温区加热至1000~1100℃、低温区加热至100~200℃,保温0.5~2h,氩气流速为20~40cm3/min,氢气流速为20~40cm3/min,从而得到了表面含有褐色沉积物的氧化铝片;所述氯化铁与氯化镍的摩尔比为946:54;步骤2:以步骤1得到的表面含有褐色沉积物的氧化铝片作为沉积衬底,氯化铁、氯化镍和硼氢化钠作为原料,乙醇为溶剂;首先将步骤1得到的表面含有褐色沉积物的氧化铝片固定于反应容器中间,然后将氯化铁、氯化镍、硼氢化钠与乙醇混合后置于反应容器内并密封,于温度200~300℃、保温24~72h,最终在氧化铝片表面得到了絮状褐色沉积物,即为镍化铁纳米棒;所述氯化铁与氯化镍的摩尔比为946:54;所述氯化铁、氯化镍与硼氢化钠的总重量占乙醇重量的10~20%;所述氯化铁、氯化镍、硼氢化钠和乙醇总量占反应容器的填充度为20~40%。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于安徽工业大学,未经安徽工业大学许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/201711070988.9/,转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇:一种物流托盘堆码与拆堆装置
- 下一篇:一种单、双线互换智能节拍流水线系统
- 同类专利
- 专利分类
C23 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面化学处理;金属材料的扩散处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆;金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上,例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上,例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的