[发明专利]一种发射光谱背景动态校正的方法在审
申请号: | 201711071921.7 | 申请日: | 2017-11-03 |
公开(公告)号: | CN107860764A | 公开(公告)日: | 2018-03-30 |
发明(设计)人: | 于丙文;陈挺;郑磊落;常红旭;赖晓健;郭淳 | 申请(专利权)人: | 浙江全世科技有限公司 |
主分类号: | G01N21/73 | 分类号: | G01N21/73;G01N21/71 |
代理公司: | 上海汉声知识产权代理有限公司31236 | 代理人: | 胡晶 |
地址: | 310053 浙江省杭州市滨江*** | 国省代码: | 浙江;33 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | 本发明公开了一种发射光谱背景动态校正的方法,该方法在做背景校正的拟合曲线的过程中,首先在较窄的范围内进行背景的拟合校正,得到该点处的校正曲线从而得到背景校正值,然后对所有的点都做对应点较窄范围内附近的校正曲线得到逐点的背景校正值,将样品谱图扣除样品的背景校正值,得到干净的信号谱图。本发明解决了在背景校正过程中,背景的相似度逐渐变化,而在整体校正的曲线只能符合部分范围的背景的校正的问题。 | ||
搜索关键词: | 一种 发射光谱 背景 动态 校正 方法 | ||
【主权项】:
一种发射光谱背景动态校正的方法,其特征在于,包括以下步骤:S1,采集空白背景谱图,包括m个谱图数据;S2,采集带有连续背景干扰的样品谱图,包括m个与所述空白背景谱图的谱图数据相对应的谱图数据;S3,根据空白背景谱图数据和连续背景干扰的样品谱图数据计算权重;S4,使用不同方法处理权重;S5,从所述样品谱图中的各点选择宽度为n的数据宽度,并从所述空白背景谱图中选择对应的n个数据进行拟合得到校正关系,其中n≤m,m、n为正整数;S6,将参与拟合的宽度为n的数据点的空白背景谱图的中心点输入校正关系得到该点的样品的估计背景;S7,对采集到的m个谱图数据,依次重复步骤S5和S6,得到完整的各点的样品的估计背景;S8,将所述样品谱图扣除所述各点的样品的估计背景,得到干净的信号谱图。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于浙江全世科技有限公司,未经浙江全世科技有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/201711071921.7/,转载请声明来源钻瓜专利网。