[发明专利]GaN基单片功率变换器及其制作方法有效

专利信息
申请号: 201711081965.8 申请日: 2017-11-06
公开(公告)号: CN108022925B 公开(公告)日: 2020-09-15
发明(设计)人: 黄森;刘新宇;王鑫华;康玄武;魏珂 申请(专利权)人: 中国科学院微电子研究所
主分类号: H01L27/07 分类号: H01L27/07;H01L29/20
代理公司: 中科专利商标代理有限责任公司 11021 代理人: 任岩
地址: 100029 *** 国省代码: 北京;11
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摘要: 发明公开了一种GaN基单片功率变换器及其制作方法,该功率变换器包括:异质结外延衬底;钝化层,形成于异质结外延衬底之上,在钝化层之间存在多个空心区域;二极管结构,形成于若干空心区域,包括:混合阳极,由阳极和第二栅极短接形成,阳极与薄势垒层实现欧姆接触,第二栅极通过位于其下方的第二栅介质层与薄势垒层实现绝缘;以及阴极,与薄势垒层实现欧姆接触;以及三极管结构,形成于其余空心区域,包括:源极、漏极和第一栅极,该源极、漏极均与薄势垒层实现欧姆接触,该第一栅极通过位于其下方的第一栅介质层与薄势垒层实现绝缘。该功率变换器中的二极管具有更低的开启电压和更高的击穿电压,制备工艺简单,提高了器件成品率。
搜索关键词: gan 单片 功率 变换器 及其 制作方法
【主权项】:
1.一种GaN基单片功率变换器,包括:异质结外延衬底,包括:GaN缓冲层和薄势垒层形成的异质结,在异质结的界面处产生二维电子气;钝化层,形成于异质结外延衬底之上,在钝化层之间存在多个空心区域;二极管结构,形成于多个空心区域中的若干空心区域,包括:混合阳极,由阳极和第二栅极短接形成,阳极与薄势垒层实现欧姆接触,第二栅极通过位于其下方的第二栅介质层与薄势垒层实现绝缘,该第二栅极和阳极形成于同一个空心区域;以及阴极,与薄势垒层实现欧姆接触;以及三极管结构,形成于多个空心区域中的其他空心区域,包括:源极、漏极和第一栅极,该源极、漏极均与薄势垒层实现欧姆接触,该第一栅极通过位于其下方的第一栅介质层与薄势垒层实现绝缘。
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