[发明专利]一种基于衰减掩膜的瞬态成像动态范围扩展方法有效
| 申请号： | 201711085653.4 | 申请日： | 2017-11-07 |
| 公开（公告）号： | CN107864317B | 公开（公告）日： | 2020-03-13 |
| 发明（设计）人： | 严明;杨少华;李刚;刘璐;郭明安;李斌康 | 申请（专利权）人： | 西北核技术研究所 |
| 主分类号： | H04N5/225 | 分类号： | H04N5/225;H04N5/232;H04N5/235 |
| 代理公司： | 西安智邦专利商标代理有限公司 61211 | 代理人： | 胡乐 |
| 地址： | 710024 陕*** | 国省代码： | 陕西;61 |
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| 摘要： | 本发明提出一种基于衰减掩膜的瞬态成像动态范围扩展方法，适用于瞬态过程图像诊断，系统结构简明，实现成本低。该方法所采用的成像系统是由像增强器、衰减掩膜以及图像传感器依次耦合形成的；所述衰减掩膜是根据像增强器的余辉发光光谱特征和图像传感器像素尺寸特征设计并加工的掩膜孔阵列；该方法包括以下步骤：利用像增强器的高时间分辨快门功能，将瞬态现象的某一时刻场景定格；利用衰减掩膜的位置选择性光衰减作用，获取到衰减系数不同的的多幅子图像，其中衰减系数较小的子图像能够获取亮度较低的场景图像，衰减系数较大的子图像能够获取亮度较高的场景图像；通过子图像插值计算获得高分辨率的高动态范围瞬态图像。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 基于 衰减 瞬态 成像 动态 范围 扩展 方法 | ||
【主权项】：
一种基于衰减掩膜的瞬态成像动态范围扩展方法，其特征在于：所采用的成像系统是由像增强器、衰减掩膜以及图像传感器依次耦合形成的；所述衰减掩膜是根据像增强器的余辉发光光谱特征和图像传感器像素尺寸特征设计并加工的掩膜孔阵列，使得像增强器余辉图像在经过掩膜孔阵列后，强度衰减系数在空间分布上有明显差别；该方法包括以下步骤：利用像增强器的高时间分辨快门功能，将瞬态现象的某一时刻场景定格；利用衰减掩膜的位置选择性光衰减作用，对像增强器余辉图像进行不同空间位置的选择性衰减，获取到衰减系数不同的的多幅子图像，其中衰减系数较小的子图像能够获取亮度较低的场景图像，衰减系数较大的子图像能够获取亮度较高的场景图像；通过子图像插值计算获得高分辨率的高动态范围瞬态图像。
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