[发明专利]有机薄膜晶体管及其制备方法在审

专利信息
申请号: 201711087327.7 申请日: 2017-11-07
公开(公告)号: CN107845727A 公开(公告)日: 2018-03-27
发明(设计)人: 徐洪远 申请(专利权)人: 深圳市华星光电半导体显示技术有限公司
主分类号: H01L51/05 分类号: H01L51/05;H01L51/40
代理公司: 深圳市德力知识产权代理事务所44265 代理人: 林才桂,刘巍
地址: 518132 广东省深*** 国省代码: 广东;44
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摘要: 发明涉及一种有机薄膜晶体管及其制备方法。该有机薄膜晶体管包括基板;源漏电极层,其形成在所述基板上;有机半导体层,其形成在所述源漏电极层上;有机绝缘层,其形成在所述有机半导体层上;电荷注入层,其形成在所述有机绝缘层上;栅电极层,其形成在所述电荷注入层上。本发明还提供了相应的制备方法。本发明的有机薄膜晶体管提供了一种新型有机薄膜晶体管结构,使有机膜晶体管器件稳定性得以提升;本发明的有机薄膜晶体管制备方法所制备的新型有机薄膜晶体管结构,使有机膜晶体管器件稳定性得以提升。
搜索关键词: 有机 薄膜晶体管 及其 制备 方法
【主权项】:
一种有机薄膜晶体管,其特征在于,包括:基板;源漏电极层,其形成在所述基板上;有机半导体层,其形成在所述源漏电极层上;有机绝缘层,其形成在所述有机半导体层上;电荷注入层,其形成在所述有机绝缘层上;栅电极层,其形成在所述电荷注入层上。
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