[发明专利]一种氧化铝基化学机械抛光液在审
| 申请号： | 201711087723.X | 申请日： | 2017-11-08 |
| 公开（公告）号： | CN109749631A | 公开（公告）日： | 2019-05-14 |
| 发明（设计）人： | 吕志敏 | 申请（专利权）人： | 吕志敏 |
| 主分类号： | C09G1/02 | 分类号： | C09G1/02;H01L21/304 |
| 代理公司： | 暂无信息 | 代理人： | 暂无信息 |
| 地址： | 266700 山东省*** | 国省代码： | 山东;37 |
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| 摘要： | 一种氧化铝基化学机械抛光液，以所述化学机械抛光液的总质量计，所述化学机械抛光液包括以下组分及百分含量：抛光颗粒0.1~30wt%、表面活性剂0.01~10wt%、余量为pH调节剂和水性介质。本发明提供的化学机械抛光浆液对蓝宝石衬底材料的抛光速率可控制在50nm/min到200nm/min,同时表面粗糙度降低到了15℃以下。利用上述抛光液可实现对蓝宝石衬底材料速率可控、表面低损伤并且无残留的抛光。 | ||
| 搜索关键词： | 化学机械抛光液 蓝宝石衬底材料 氧化铝基 抛光 化学机械抛光 表面粗糙度 表面活性剂 抛光颗粒 水性介质 低损伤 可控制 抛光液 无残留 可控 | ||
【主权项】：
1.一种氧化铝基化学机械抛光液，其特征在于，以所述化学机械抛光液的总质量计，所述化学机械抛光液包括以下组分及百分含量：抛光颗粒0.1～30wt％表面活性剂0.01～10wt％余量为pH调节剂和水性介质。
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