[发明专利]OPC修正方法有效
| 申请号： | 201711097082.6 | 申请日： | 2017-11-09 |
| 公开（公告）号： | CN108009316B | 公开（公告）日： | 2021-08-13 |
| 发明（设计）人： | 王丹;毛智彪;于世瑞 | 申请（专利权）人： | 上海华力微电子有限公司 |
| 主分类号： | G06F30/398 | 分类号： | G06F30/398;G03F1/36 |
| 代理公司： | 上海浦一知识产权代理有限公司 31211 | 代理人： | 郭四华 |
| 地址： | 201203 上海市浦东新区*** | 国省代码： | 上海;31 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种OPC修正方法，包括步骤：步骤一、对已知热点图形进行归纳和总结；步骤二、对已知热点图形的处理方法进行归纳和总结；步骤三、制定出已知热点图形和潜在热点图形的识别规则；步骤四、制定出已知热点图形和潜在热点图形进行预先处理的预处理规则；步骤五、对新设计的掩模板版图进行已知热点图形和潜在热点图形识别，将识别出的已知热点图形和潜在热点图形按照进行预处理，对预处理后的新设计的掩模板版图进行OPC修正。本发明能减少或消除OPC修正后的热点数量，从而能节约OPC工程师时间、OPC运算时间和软硬件资源。 | ||
| 搜索关键词： | opc 修正 方法 | ||
【主权项】：
1.一种OPC修正方法，其特征在于，包括如下步骤：步骤一、将已做过OPC修正的掩模板版图中出现的热点图形作为已知热点图形并对所述已知热点图形进行归纳和总结；步骤二、对所述已知热点图形的处理方法进行归纳和总结；步骤三、根据步骤一中的归纳和总结结果制定出在新设计的掩模板版图中识别所述已知热点图形和潜在热点图形的识别规则，所述潜在热点图形为在所述已知热点图形上扩展形成的图形；步骤四、根据步骤二中的归纳和总结结果制定出对新设计的掩模板版图中的所述已知热点图形和所述潜在热点图形进行预先处理的预处理规则；步骤五、按照所述识别规则对新设计的掩模板版图进行所述已知热点图形和所述潜在热点图形进行识别，将识别出的所述已知热点图形和所述潜在热点图形按照所述预处理规则进行预处理，对预处理后的新设计的掩模板版图进行OPC修正。
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