[发明专利]大满阱容量带抗晕结构的CCD有效

专利信息
申请号: 201711102973.6 申请日: 2017-11-10
公开(公告)号: CN107706203B 公开(公告)日: 2020-08-14
发明(设计)人: 王小东;汪朝敏;李博乐;涂戈 申请(专利权)人: 中国电子科技集团公司第四十四研究所
主分类号: H01L27/148 分类号: H01L27/148
代理公司: 重庆辉腾律师事务所 50215 代理人: 王海军
地址: 400060 *** 国省代码: 重庆;50
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摘要: 发明公开了一种大满阱容量带抗晕结构的CCD,所述CCD为多个像元构成的可见光帧转移结构的面阵CCD;其创新在于:单个像元包括四个转移控制栅、两个势垒区、两个势阱区和两个抗晕栅;本发明的有益技术效果是:提供了一种大满阱容量带抗晕结构的CCD,该CCD具备较大的满阱容量,像元的量子效率也较高,而且具备较强的抗晕能力,可有效提高图像的对比度和动态范围。
搜索关键词: 大满阱 容量 带抗晕 结构 ccd
【主权项】:
一种大满阱容量带抗晕结构的CCD,所述CCD为多个像元构成的可见光帧转移结构的面阵CCD;其特征在于:单个像元包括四个转移控制栅、两个势垒区(1)、两个势阱区(2)和两个抗晕栅(4);所述势垒区(1)的周向轮廓为矩形,所述势阱区(2)的周向轮廓为矩形;所述势垒区(1)的左侧边所在方向记为A方向,与A方向垂直的方向记为B方向;势垒区(1)和势阱区(2)沿B方向排列:第一势垒区(1)的右侧边与第一势阱区(2)的左侧边相连,第一势阱区(2)的右侧边与第二势垒区(1)的左侧边相连,第二势垒区(1)的右侧边与第二势阱区(2)的左侧边相连,第二势阱区(2)的右侧边形成像元的输出侧;两个势垒区(1)和两个势阱区(2)所组成的区域记为转移区,转移区的周向轮廓为矩形;第一转移控制栅设置在第一势垒区(1)表面,第二转移控制栅设置在第一势阱区(2)表面,第三转移控制栅设置在第二势垒区(1)表面,第四转移控制栅设置在第二势阱区(2)表面;单个势垒区(1)在B方向上的尺寸为3μm,单个势阱区(2)在B方向上的尺寸为52μm,转移区在A方向上的尺寸为62μm;两个抗晕栅(4)设置在成像区的上侧;所述抗晕栅(4)的周向轮廓为矩形,抗晕栅(4)在B方向上的尺寸小于势阱区(2)在B方向上的尺寸;第一抗晕栅(4)的下侧边与第一势阱区(2)的上侧边相连,第二抗晕栅(4)的下侧边与第二势阱区(2)的上侧边相连,抗晕栅(4)位于相应势阱区(2)的中部。
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