[发明专利]一种动态形变可控微镜镜面梳齿结构及其加工方法有效

专利信息
申请号: 201711105438.6 申请日: 2017-11-10
公开(公告)号: CN107976871B 公开(公告)日: 2020-09-11
发明(设计)人: 虞传庆;王鹏;陈文礼;王宏臣;孙丰沛;董珊 申请(专利权)人: 无锡英菲感知技术有限公司
主分类号: G03F7/20 分类号: G03F7/20;B81C1/00;B81B7/02
代理公司: 广州三环专利商标代理有限公司 44202 代理人: 郝传鑫;贾允
地址: 214000 江苏省无锡市新吴区*** 国省代码: 江苏;32
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摘要: 发明提供一种动态形变可控微镜镜面梳齿结构及其加工方法,包括如下步骤:步骤一,准备晶圆;步骤二,形成微镜镜面、静梳齿和动梳齿的平面排布区;步骤三,覆盖所述步骤二中形成的缝隙;步骤四,露出包含动梳齿、微镜镜面和联通所述动梳齿的焊盘区域的第一区域;步骤五,刻蚀掉所述第一区域下的第一单晶硅器件层和第一绝缘层;步骤六,在晶圆表面选择性沉积金属层;步骤七,反转晶圆,在衬底层底面形成掩膜,深度刻蚀以蚀穿所述衬底层。本发明使用双硅器件层的SOI晶圆加工垂直梳齿,无需采用晶圆键合工艺,降低加工难度,提高了成品率。动静梳齿对的定义只需一次光刻,避免了分步光刻时的对位误差问题,使加工形貌尽可能地逼近设计样式。
搜索关键词: 一种 动态 形变 可控 微镜镜面 梳齿 结构 及其 加工 方法
【主权项】:
一种动态形变可控微镜镜面梳齿结构的加工方法,其特征在于,所述方法包括如下步骤:步骤一,准备晶圆,所述晶圆包括五层结构,依次为:第一单晶硅器件层,第一绝缘层、第二单晶硅器件层、第二绝缘层和衬底层;步骤二,形成微镜镜面、静梳齿和动梳齿的平面排布区;步骤三,覆盖所述步骤二中形成的缝隙;步骤四,露出包含动梳齿、微镜镜面和联通所述动梳齿的焊盘区域的第一区域;步骤五,刻蚀掉所述第一区域下的第一单晶硅器件层和第一绝缘层;步骤六,在晶圆表面选择性沉积金属层;步骤七,反转晶圆,在所述衬底层底面形成掩膜,深度刻蚀以蚀穿所述衬底层;去除第二绝缘层,以释放所述微镜的可动部分。
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