[发明专利]外延基环

摘要

本文描述的实施方式涉及用于基板处理腔室的基环组件。在一实施方式中，所述基环组件包括环形主体、上环与下环，所述环形主体的尺寸被设计以容置在所述基板处理腔室的内圆周内，所述环形主体包括装载端口以使基板通过、气体入口以及气体出口，其中所述气体入口与所述气体出口被设置在所述环形主体的相对端处，所述上环被配置以设于所述环形主体的顶表面上，所述下环被配置以设于所述环形主体的底表面上，其中所述上环、所述下环与所述环形主体一旦组装即大体呈同心或共轴的。

主权项

1.一种用于基板处理腔室的环组件，包括：环形主体，所述环形主体具有顶表面和与所述顶表面相对的底表面，所述环形主体包括：基板装载端口；气体入口，所述气体入口设置在所述环形主体的侧壁处；和气体出口，所述气体入口与所述气体出口被设置在所述环形主体的相对端处；上环，所述上环设置在所述顶表面上，所述上环与所述环形主体的所述顶表面在所述上环与所述环形主体的所述顶表面之间界定第一流体通道；和下环，所述下环设置在所述底表面上，所述下环与所述环形主体的所述底表面在所述下环与所述环形主体的所述底表面之间界定第二流体通道，其中所述环形主体、所述上环和所述下环是同心的。