[发明专利]表面化学修饰方法、芯片制备方法及芯片有效

专利信息
申请号: 201711105852.7 申请日: 2017-11-10
公开(公告)号: CN112326949B 公开(公告)日: 2023-04-07
发明(设计)人: 赵智;黄天逊;赵陆洋;颜钦 申请(专利权)人: 深圳市真迈生物科技有限公司
主分类号: C12Q1/6837 分类号: C12Q1/6837
代理公司: 暂无信息 代理人: 暂无信息
地址: 518000 广东省深圳市罗湖区清水*** 国省代码: 广东;44
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摘要: 发明提出了一种制备芯片的方法。该方法包括:对固相基底进行表面修饰,表面修饰包括利用混合物对固相基底的表面进行处理,混合物包含1:1~1:1000摩尔比的环氧基团和亲水基团末端。该能够通过控制环氧基和亲水基团的比例,根据实际需求,方便地调节表面环氧基团和亲水基团的密度,从而达到探针承载量可调控;同时,通过在表面引入亲水性基团,能够调整表面疏水性,降低芯片表面非特异吸附,提高获得芯片的性能。
搜索关键词: 表面 化学 修饰 方法 芯片 制备
【主权项】:
暂无信息
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