[发明专利]图案结构在审
| 申请号： | 201711106396.8 | 申请日： | 2014-09-30 |
| 公开（公告）号： | CN107784960A | 公开（公告）日： | 2018-03-09 |
| 发明（设计）人： | 吴楚宁;李明宪;陈新立;陈柏宇;杨础豪;骆建桦;郑秉绪;姚怡安 | 申请（专利权）人： | 群创光电股份有限公司 |
| 主分类号： | G09F19/12 | 分类号： | G09F19/12 |
| 代理公司： | 上海专利商标事务所有限公司31100 | 代理人： | 骆希聪 |
| 地址： | 中国台湾新竹科学工*** | 国省代码： | 台湾;71 |
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| 摘要： | 本发明提供了一种图案结构。该图案结构包括一基板、一遮光层、一有机层以及一色泽层。遮光层设置于基板上，并于基板上形成一图案，图案具有一容置空间。有机层至少设置于部分的容置空间内。色泽层覆盖于有机层、遮光层及基板上。本发明亦揭露另一种图案结构。 | ||
| 搜索关键词： | 图案 结构 | ||
【主权项】：
一种图案结构，包括：一基板；一有机层，设置于所述基板上，且所述有机层对应到一图案处的厚度大于所述有机层没有对应到该图案处的厚度；以及一深色覆盖层，覆盖所述有机层。
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