[发明专利]一种立体感温润新型抛釉砖及其制备方法在审
| 申请号： | 201711109212.3 | 申请日： | 2017-11-11 |
| 公开（公告）号： | CN109776074A | 公开（公告）日： | 2019-05-21 |
| 发明（设计）人： | 佘玲英 | 申请（专利权）人： | 佘玲英 |
| 主分类号： | C04B33/16 | 分类号： | C04B33/16;C04B33/13;C04B33/34;C03C8/16 |
| 代理公司： | 暂无信息 | 代理人： | 暂无信息 |
| 地址： | 710000 陕西省西*** | 国省代码： | 陕西;61 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种立体感温润新型抛釉砖及其制备方法，其是在坯体表面依次进行施面釉、喷墨印花、淋生料厚抛釉工序，之后在窑炉中烧成制得成品。本发明通过配方创新增强了坯体强度，解决了坯体变形以及快烧问题。另外，淋生料厚抛釉后加入了双层烘干窑，利用窑炉余热对砖坯进行烘干，降低了入窑前坯体水分，节约能源的同时，解决了裂砖问题。本发明实现了行业最大抛釉量生产大理石抛釉砖，解决了现有陶瓷砖不能同时具备微晶砖的立体感和抛釉砖发色好图案丰富易于控制特性的问题。 | ||
| 搜索关键词： | 抛釉砖 立体感 生料 制备 砖坯 控制特性 喷墨印花 坯体变形 坯体表面 坯体强度 窑炉余热 烘干窑 前坯体 陶瓷砖 烘干 大理石 发色 面釉 入窑 烧成 微晶 窑炉 釉量 配方 图案 节约 能源 生产 | ||
【主权项】：
1.一种立体感温润新型抛釉砖及其制备方法，其特征在于，用于生产该新型抛釉砖的坯体成型后，在坯体表面依次进行施面釉、喷墨印花、淋生料厚抛釉工序，之后在窑炉中烧成制得成品。
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