[发明专利]基于规则的OPC方法有效
| 申请号： | 201711112632.7 | 申请日： | 2017-11-10 |
| 公开（公告）号： | CN107831636B | 公开（公告）日： | 2020-09-01 |
| 发明（设计）人： | 何大权;赵宝燕 | 申请（专利权）人： | 上海华力微电子有限公司 |
| 主分类号： | G03F1/36 | 分类号： | G03F1/36 |
| 代理公司： | 上海浦一知识产权代理有限公司 31211 | 代理人： | 戴广志 |
| 地址： | 201203 上海市浦东新区*** | 国省代码： | 上海;31 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 本发明公开了一种基于规则的OPC方法，包括：步骤一、输入初始图形；步骤二、选择不作移动的图形边；步骤三、选择规则二图形边，该图形边记为B2；步骤四、选择规则一图形边，该图形边记为B1；步骤五、设定图形边移动规则一；步骤六、根据规则一移动图形边B1，得到的图形记为T1；步骤七、选择图形T1中与图形边B2的共边，该共边记为B21；步骤八、设定图形边移动规则二；步骤九、根据移动规则二移动图形边B21；步骤十、输出图形。本发明能够使经过OPC处理后的修正图形不会产生多余的凹凸。 | ||
| 搜索关键词： | 基于 规则 opc 方法 | ||
【主权项】：
一种基于规则的OPC方法，包括：步骤一、输入初始图形；步骤二、选择不作移动的图形边；其特征在于，还包括如下步骤：步骤三、选择规则二图形边，该图形边记为B2；步骤四、选择规则一图形边，该图形边记为B1；步骤五、设定图形边移动规则一；步骤六、根据规则一移动图形边B1，得到的图形记为T1；步骤七、选择图形T1中与图形边B2的共边，该共边记为B21；步骤八、设定图形边移动规则二；步骤九、根据移动规则二移动图形边B21；步骤十、输出图形。
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G03 摄影术；电影术；利用了光波以外其他波的类似技术；电记录术；全息摄影术
G03F 图纹面的照相制版工艺，例如，印刷工艺、半导体器件的加工工艺；其所用材料；其所用原版；其所用专用设备
G03F1-00 用于图纹面的照相制版的原版，例如掩膜，光掩膜；其所用空白掩膜或其所用薄膜；其专门适用于此的容器；其制备
G03F1-20 .用于通过带电粒子束(CPB)辐照成像的掩膜或空白掩膜，例如通过电子束；其制备
G03F1-22 .用于通过100nm或更短波长辐照成像的掩膜或空白掩膜，例如 X射线掩膜、深紫外
G03F1-26 .相移掩膜[PSM]；PSM空白；其制备
G03F1-36 .具有临近校正特征的掩膜；其制备，例如光学临近校正(OPC)设计工艺
G03F1-38 .具有辅助特征的掩膜，例如用于校准或测试的特殊涂层或标记；其制备
G03F 图纹面的照相制版工艺，例如，印刷工艺、半导体器件的加工工艺；其所用材料；其所用原版；其所用专用设备
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