[发明专利]一种光学材料面折射率的测量方法在审
| 申请号： | 201711113867.8 | 申请日： | 2017-11-13 |
| 公开（公告）号： | CN107870160A | 公开（公告）日： | 2018-04-03 |
| 发明（设计）人： | 段存丽;赵鹏程;张玉虹;刘王云;郭荣礼;胡小英;于佳;万文博 | 申请（专利权）人： | 西安工业大学 |
| 主分类号： | G01N21/45 | 分类号： | G01N21/45 |
| 代理公司： | 西安新思维专利商标事务所有限公司61114 | 代理人： | 黄秦芳 |
| 地址： | 710032 陕*** | 国省代码： | 陕西;61 |
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| 摘要： | 本发明一种光学材料面折射率的测量方法，包括下述步骤1、光束通过扩束、准直、滤波后形成一束平面光波；2、一束平面光波经马赫泽德尔干涉装置形成两列相干光波，两列相干光波形成楔形虚平板，干涉场为等厚干涉条纹，测试干涉场的分布；3、把待测光学材料放在其中一列相干光波中进行测试，待测件的折射率的变化可转化为光波的相位差，测试干涉场的变化分布情况；4、对干涉场的数据进行处理，完成待测光学材料光场面的面折射率测量。本发明建立的折射率变化和干涉场条纹变化之间的数学模型，利用待测件插入前后的干涉图样的变化消除了干涉光路中的误差，实现了光学材料的面折射率绝对测量，并使测量误差降低，测量精度高。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 光学材料 折射率 测量方法 | ||
【主权项】：
一种光学材料面折射率的测量方法，包括下述步骤：步骤1，光束通过扩束、准直、滤波后形成一束平面光波；步骤2，一束平面光波经马赫泽德尔干涉装置形成两列相干光波，两列相干光波形成楔形虚平板，干涉场为等厚干涉条纹，测试干涉场的分布；步骤3，把待测光学材料放在其中一列相干光波中进行测试，待测件的折射率的变化可转化为光波的相位差，测试干涉场的变化分布情况；步骤4，对干涉场的数据进行处理，完成待测光学材料光场面的面折射率测量。
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