[发明专利]一种具有垂直磁各向异性的磁性薄膜材料及其制备方法有效
申请号: | 201711116536.X | 申请日: | 2017-11-13 |
公开(公告)号: | CN107958765B | 公开(公告)日: | 2020-07-03 |
发明(设计)人: | 李明华;于广华;陈喜;施辉;方帅 | 申请(专利权)人: | 北京科技大学 |
主分类号: | H01F10/00 | 分类号: | H01F10/00;H01F10/30;H01F41/14;H01F41/22 |
代理公司: | 北京金智普华知识产权代理有限公司 11401 | 代理人: | 皋吉甫 |
地址: | 100083*** | 国省代码: | 北京;11 |
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摘要: | 本发明涉及一种具有垂直磁各向异性的磁性薄膜材料及其制备方法,其薄膜结构:基片/(0.1~100nm)Ta和半金属元素的合金化合物/多层膜/(0.1~100nm)Ta和半金属元素(如B、Si、As、Sb、Te、Po)的合金化合物。本发明的有益效果是,该方法是在上述多层膜两边沉积(0.1~100.0 nm)Ta和半金属元素的合金化合物的缓冲层和保护层。利用半金属材料特殊的物理化学性质来避免Ta的扩散,同时改善薄膜中输运电子的散射途径,延长电子的自由程,进而达到提高薄膜的垂直磁各向异性、改善其热稳定性的目的,以满足磁性随机存储器和磁传感器的性能和产品需求。 | ||
搜索关键词: | 一种 具有 垂直 各向异性 磁性 薄膜 材料 及其 制备 方法 | ||
【主权项】:
一种具有垂直磁各向异性的磁性薄膜材料,该磁性薄膜材料包括基底、缓冲层、具有垂直磁各向异性的多层膜、保护层;其特征在于,所述缓冲层和保护层均由金属Ta和半金属元素构成,所述金属Ta的质量百分比为:19.9‑99.9%,剩余为半金属元素。
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