[发明专利]一种石墨烯晶体管及制备方法有效

专利信息
申请号: 201711118404.0 申请日: 2017-11-14
公开(公告)号: CN107910377B 公开(公告)日: 2019-11-19
发明(设计)人: 蔚翠;何泽召;刘庆彬;宋旭波;王晶晶;周闯杰;郭建超;冯志红 申请(专利权)人: 中国电子科技集团公司第十三研究所
主分类号: H01L29/786 分类号: H01L29/786;H01L29/423;H01L21/336
代理公司: 13120 石家庄国为知识产权事务所 代理人: 付晓娣<国际申请>=<国际公布>=<进入
地址: 050000 *** 国省代码: 河北;13
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要: 发明公开了一种石墨烯晶体管及制备方法,属于半导体器件技术领域,石墨烯晶体管包括衬底,衬底的上表面设有石墨烯PN结,石墨烯PN结两侧设有源、漏接触电极;石墨烯PN结的P区或N区设有与石墨烯PN结成45°夹角的栅极。该方法包括在在衬底上制作石墨烯PN结;在石墨烯PN结两侧制作源、漏接触电极;在石墨烯PN结上制作与石墨烯PN结成45°夹角的栅极。本发明利用石墨烯PN结中的载流子通过PN结的几率与PN结的夹角相关特性,在石墨烯PN结的P区或N区制作与PN结成45°夹角的栅极,使载流子通过具有45°夹角的两个PN结时被完全反射,从而实现石墨烯晶体管的自由开关。
搜索关键词: 一种 石墨 晶体管 制备 方法
【主权项】:
1.一种石墨烯晶体管制备方法,其特征在于,包括步骤:/n在衬底上制作石墨烯PN结;/n在所述石墨烯PN结两侧分别制作源、漏接触电极;/n在所述石墨烯PN结的P区或N区制作与所述石墨烯PN结的结区成45°夹角的栅极,所述栅极贯穿所述P区或N区;/n其中,所述源、漏接触电极与石墨烯PN结的结区平行。/n
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于中国电子科技集团公司第十三研究所,未经中国电子科技集团公司第十三研究所许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/201711118404.0/,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top