[发明专利]一种微腔结构紫外探测器及其制备方法有效

专利信息
申请号: 201711119912.0 申请日: 2017-11-14
公开(公告)号: CN109786494B 公开(公告)日: 2020-08-11
发明(设计)人: 陈洪宇;苏龙兴;胡平安;李炳生 申请(专利权)人: 哈尔滨工业大学
主分类号: H01L31/09 分类号: H01L31/09;H01L31/036;H01L31/18
代理公司: 暂无信息 代理人: 暂无信息
地址: 150001 黑龙*** 国省代码: 黑龙江;23
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摘要: 发明公开了一种微腔结构紫外探测器及其制备方法,其中紫外探测器的制备过程包括衬底清洗、籽晶层生长、微米线生长、单根宽禁带半导体微/纳米线上下两侧金属薄膜、金属纳米粒子的制备以及探测器金属电极层的制备工艺。本发明的特点是新开发了一种特殊结构的高性能、小体积的紫外探测器,其探测截止波长小于380nm,解决了紫外探测器尺寸的减小和光电转的提高难以同时实现的矛盾问题。此外,此种微腔结构紫外探测器结构简单、易于耦合焦平面读出电路,有益于下一代高密度集成光电回路的开发。
搜索关键词: 一种 结构 紫外 探测器 及其 制备 方法
【主权项】:
1.一种新型微腔结构紫外探测器,其特征在于,包括:金属薄膜,宽禁带半导体微/纳米线,金属纳米结构以及器件两端的金属电极;其中金属薄膜的厚度为5nm~2μm,单根四边形宽禁带微/纳米线的截面宽度为10nm~10μm,截面厚度为10nm~10μm,微米线的长度为1mm‑1cm,金属纳米结构的特征尺寸范围为10~300nm,相邻金属纳米粒子之间的间距为5~100nm,金属电极层的厚度为30~500nm。
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