[发明专利]一种低价态氧化钽光学镀膜材料及制备方法在审
| 申请号： | 201711124575.4 | 申请日： | 2017-11-14 |
| 公开（公告）号： | CN107892571A | 公开（公告）日： | 2018-04-10 |
| 发明（设计）人： | 秦海波 | 申请（专利权）人： | 北京富兴凯永兴光电技术有限公司 |
| 主分类号： | C04B35/495 | 分类号： | C04B35/495;C04B35/622 |
| 代理公司： | 北京市商泰律师事务所11255 | 代理人： | 毛燕生 |
| 地址： | 102629 北*** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： | 一种低价态氧化钽光学镀膜材料及制备方法，属于光学镀膜材料技术领域。按五氧化二钽与金属钽粉的质量比10.3～13的比例进行配料、混合、造粒或压片、真空状态下烧结，烧结温度为1350℃～1750℃，形成导电性良好的低价态氧化钽。制备的低价态氧化钽光学镀膜材料用于生产光学元件。本发明的优点是在五氧化二钽中加入一定量金属钽粉，经成型造粒或压片，真空烧结，形成低价态的稳定氧化钽，可在大气中长期存放，不会发生价态的变化，这样就解决了真空烧结五氧化二钽在大气中不稳定的问题。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 低价 氧化 光学 镀膜 材料 制备 方法 | ||
【主权项】：
一种低价态氧化钽光学镀膜材料，其特征在于由五氧化二钽和金属钽粉烧结而成；五氧化二钽和金属钽粉的摩尔百分比在1：0.3～1:3之间，在真空条件下烧结而成，烧结温度为在1350℃～1750℃之间，可以形成TaO2、Ta2O3、TaO几种低态氧化钽。
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