[发明专利]调节电感结构感值的方法有效

专利信息
申请号: 201711132888.4 申请日: 2017-11-15
公开(公告)号: CN107946279B 公开(公告)日: 2020-07-17
发明(设计)人: 黎坡 申请(专利权)人: 上海华虹宏力半导体制造有限公司
主分类号: H01L23/522 分类号: H01L23/522;H01F21/02
代理公司: 上海思微知识产权代理事务所(普通合伙) 31237 代理人: 屈蘅
地址: 201203 上海市浦东*** 国省代码: 上海;31
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摘要: 发明提供了一种调节电感结构感值的方法,所述电感结构包括衬底、形成于衬底上的导电层和形成于所述导电层上的第一介质层,所述第一介质层中形成有电感线圈,所述衬底和所述电感线圈之间形成有一导电层,当所述电感线圈上有电流时,衬底会感应出感应电荷,该感应电荷产生一个与线圈电流相反的镜像电流,而在所述导电层上施加电压,电压的增大和减小可以改变所述衬底上感应出的感应电荷,从而控制所述镜像电流的大小,最终改变有效磁场强度和有效的电感结构感值。
搜索关键词: 调节 电感 结构 方法
【主权项】:
一种调节电感结构感值的方法,其特征在于,所述调节电感结构感值的方法包括:提供电感结构,所述电感结构包括衬底、形成于所述衬底上的导电层及形成于所述导电层上的第一介质层,所述第一介质层中形成有电感线圈;在所述电感结构的导电层施加电压。
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