[发明专利]一种片式电阻溅射侧电极装置在审
申请号: | 201711136393.9 | 申请日: | 2017-11-16 |
公开(公告)号: | CN107910149A | 公开(公告)日: | 2018-04-13 |
发明(设计)人: | 李福喜;黄明怀;徐建建;陈立俊 | 申请(专利权)人: | 贝迪斯电子有限公司 |
主分类号: | H01C17/28 | 分类号: | H01C17/28 |
代理公司: | 安徽省蚌埠博源专利商标事务所34113 | 代理人: | 倪波 |
地址: | 233000 安徽省蚌*** | 国省代码: | 安徽;34 |
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摘要: | 本发明涉及一种片式电阻溅射侧电极装置,包括托架(1),在托架(1)的一侧设有开口(2),在开口(2)处配合连接压紧组件(3);压紧组件(3)包括压板(4),在压板(4)的一侧设有第一卡板(5),在压板(4)的另一侧设有第二卡板(6),在压板(4)上还固定连接弹簧(7)。本发明的优点本装置通过本装置将零散的片式电阻成批量的放在一起进行侧电极的溅射加工,它的结构简单,便于组合,价格低廉,易于操作,省时省力,能够在现有的圆滚式溅射机上对片式电阻的侧电极进行溅射。 | ||
搜索关键词: | 一种 电阻 溅射 电极 装置 | ||
【主权项】:
一种片式电阻溅射侧电极装置,其特征在于:包括托架(1),在托架(1)的一侧设有开口(2),在开口(2)处配合连接压紧组件(3);压紧组件(3)包括压板(4),在压板(4)的一侧设有第一卡板(5),在压板(4)的另一侧设有第二卡板(6),在压板(4)上还固定连接弹簧(7)。
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