[发明专利]基于光谱的监测化学机械研磨的装置及方法

摘要

本发明是揭示用于化学机械研磨的光谱基底监测的设备与方法，包含光谱基底终点侦测、光谱基底研磨速率调整、冲洗光学头的上表面、或具有窗口的垫片。该光谱基底终点侦测依经验法则为特定光谱基底终点判定逻辑选用一参考光谱，因此当应用该特定光谱基底终点逻辑判定出终点时，即是达到目标厚度。该研磨终点可利用一差异图形或一系列指针值来判定。该冲洗系统在该光学头上表面产生层流。该真空喷孔和真空来源是经配置以使该气流为层流型态。该窗口包含一软质塑料部分及一结晶或玻璃类部分。光谱基底研磨速率调整包含取得基材上不同区域的光谱。

主权项

一种用于冲洗研磨垫窗口的下表面的冲洗系统，所述系统包含：气体来源，所述气体来源经配置以提供气流；输送喷孔；以及输送线，所述输送线连接所述气体来源至所述输送喷孔，其中所述气体来源和所述输送喷孔经配置以引导气流至所述研磨垫窗口底部，并且其中防止凝结物形成在所述研磨垫窗口的所述下表面上。