[发明专利]一种含羟胺清洗液、其制备方法及应用有效

专利信息
申请号: 201711146092.4 申请日: 2017-11-17
公开(公告)号: CN107765514B 公开(公告)日: 2019-03-05
发明(设计)人: 王溯;蒋闯 申请(专利权)人: 上海新阳半导体材料股份有限公司
主分类号: G03F7/32 分类号: G03F7/32
代理公司: 上海弼兴律师事务所 31283 代理人: 薛琦;袁红
地址: 201616 *** 国省代码: 上海;31
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摘要: 发明公开了一种含羟胺清洗液、其制备方法及应用。本发明的含羟胺清洗液由下述原料制得,所述的原料包括下列质量分数的组分:10‑60%的水、10‑50%的水溶性有机溶剂、0.1‑20%的胺化合物、1‑30%的羟胺类化合物和/或其盐、和5‑15%的环糊精改性烷撑二醇烷基醚化合物,各组分质量分数之和为100%。本发明的含羟胺清洗液超越了传统羟胺类清洗剂的清洗能力,同时对金属和非金属的腐蚀速率较小。
搜索关键词: 一种 含羟胺 清洗 制备 方法 应用
【主权项】:
1.一种含羟胺清洗液,其特征在于,其由下述原料制得,所述的原料包括下列质量分数的组分:10‑60%的水、10‑50%的水溶性有机溶剂、0.1‑20%的胺化合物、1‑30%的羟胺类化合物和/或其盐、和5‑15%的环糊精改性烷撑二醇烷基醚化合物,各组分质量分数之和为100%;所述的胺化合物为2‑乙基己基胺、二乙基胺、正丁基胺、叔丁基胺、正己基胺、环己基胺、正辛基胺、N‑甲基‑N‑丁基胺和正十二烷基胺中的一种或多种。
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